光化學煙霧污染系統(tǒng)模擬及預測分析研究.pdf

1、本文首先對光化學煙霧的形成及其帶來的危害進行了系統(tǒng)檢索，并對光化學煙霧對人體，植物以及所引起的一系列社會問題進行了深入分析。光化學煙霧的生成主要受到NO<,x>和VOCs以及氣溶膠的影響，通過對NO<,x>和VOCs以及氣溶膠對光化學煙霧的形成的影響機制的研究，得出光化學煙霧污染的形成由于受控機制的不同分別屬于NO<,x>—sensitive和VOCs—sensitive。針對目前我國的城市空氣質量現(xiàn)狀，即在交通高峰期空氣中的VOCs比

2、較豐富，所以光化學煙霧的形成主要是VOCs—sensitive。 為了使模擬的臭氧生成潛在趨勢更加接近實測值，提高預測的準確率，所以在光化學煙霧模式模擬方面，本研究對了不同的光化學煙霧模式進行了分析。FARIMA模型對于所得的歷史實測數(shù)據(jù)進行了統(tǒng)計分析，去長相關分析，通過估計其Hurst參數(shù)得到了可以很好的預測光化學煙霧污染形成的時間序列，并且獲得了豐富的內(nèi)在信息，通過模擬預測對以往的光化學煙霧產(chǎn)量模式的實際觀測值進行了預測，

3、并得到比較好的預測結果。 由于光化學煙霧的形成受到諸多因素的影響，而導致光化學煙霧污染形成的要素和結果之間呈復雜的非線性關系，所以為了得到這些復雜因素之間的可以預測的關系，本文采用了基于分形的分形拼貼模型以及N階迭代累加法對現(xiàn)有的光化學煙霧的實測值進行分形變換，使其變換成為可以用分形理論進行模擬的光化學煙霧總量時序，以此為基礎進行后續(xù)模擬和預測。模型分析表明，光化學煙霧總量的產(chǎn)生不僅僅受到大氣污染物的影響，同時客觀其他條件(日