雙核磺化酞菁鈷對巰基化合物的電催化行為研究及其摻雜的聚苯胺膜的制備和表征.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、該論文研究不同濃度的雙核磺化酞菁鈷(bi-CoPc)在硫酸溶液中與苯胺電聚合形成的聚合物膜的性質(zhì),用循環(huán)伏安法、紫外可見近紅外光譜、紅外光譜、掃描電子顯微鏡和導(dǎo)電率進行表征.通過陰離子表面活性劑:雙十二烷基二甲基溴化銨(DDAB),在水溶液中將bi-CoPc修飾到玻碳電極表面,研究了這種修飾電極在不同pH值的堿性溶液中的電化學(xué)和電催化行為.研究表明:(1)bi-CoPc以對陰離子的形式摻雜到聚苯胺中,從循環(huán)伏安圖中可以看到酞菁環(huán)的氧化還

2、原峰;紫外可見近紅外光譜中686nm處出現(xiàn)酞菁單體的吸收峰;在紅外光譜中,對酞菁摻雜的聚合物膜來講,摻雜后酞菁的特征峰與單純酞菁的相比,移向低能方向;電鏡圖片表明,酞菁濃度對膜性質(zhì)有很重要的影響.此外由于酞菁的大環(huán)結(jié)構(gòu)導(dǎo)致導(dǎo)電率變化很小.(2)由于氫鍵的作用,bi-CoPc在水溶液中發(fā)生強烈的聚集,將其制成bi-CoPc-DDAB薄膜修飾電極,可以有效地降低bi-CoPc在水溶液中的聚集.應(yīng)用循環(huán)伏安法估計了bi-CoPc在電極上的表面

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