化學(xué)修飾電極的制備及其應(yīng)用研究.pdf

1、化學(xué)修飾電極是20世紀(jì)70年代中期發(fā)展起來的一門新興的、也是當(dāng)前最活躍的電化學(xué)和電分析化學(xué)的前沿領(lǐng)域，目前已應(yīng)用于生命科學(xué)、環(huán)境科學(xué)、食品科學(xué)、分析科學(xué)以及材料科學(xué)等許多方面。聚合物修飾電極能夠有目的地在電極表面固定所選擇的化學(xué)功能團(tuán)，賦予電極某種特定的性質(zhì)，可以高選擇地進(jìn)行所期望的反應(yīng)。修飾電極制備方法簡單，電極使用壽命長，從而得以廣泛使用。 本論文的采用化學(xué)或者電化學(xué)方法把特定官能團(tuán)固定在電極表面，制備修飾電極，研究了該類修

2、飾電極的電催化、吸附、富集等性能，并應(yīng)用于Cu2+離子和抗壞血酸的分析測定。 1．采用自組裝和電化學(xué)循環(huán)伏安法，制得了L-半胱氨酸修飾金(L-Cys/Au)電極，探討了L-Cys/Au電極的電化學(xué)特性，研究了該修飾電極表面Cu2+離子的吸附伏安行為，在含銅離子的磷酸緩沖液(pH=6.86)中攪拌富集，銅離子吸附在L-Cys/Au電極表面在一定濃度范圍內(nèi)Cu2+離子濃度的對數(shù)值與Cu2+離子的吸附還原峰電流(Ipc)呈良好的線性關(guān)

3、系，最低檢測限可達(dá)2.0×10-10mol/L，由此建立了一種靈敏的、選擇性良好的檢測痕量Cu2+離子的電化學(xué)新方法。 2．通過電化學(xué)循環(huán)伏安法制備了L-谷氨酸/鐵氰酸鉀修飾玻碳電極，考察了Cu2+離子在該修飾電極上的陽極溶出伏安行為，溶出峰電流(Ipa)隨Cu2+離子濃度的增大而增大，并且在1.0×10～1.0×10-3mol/L濃度范圍內(nèi)，峰電流與Cu2+離子濃度的對數(shù)存在良好的線性關(guān)系，建立了一種檢測痕量銅離子的陽極溶出伏

4、安新方法。 3．采用電聚合的方法制備了聚L-谷氨酸修飾玻碳電極，探討了聚L-谷氨酸修飾玻碳電極的電化學(xué)行為，該修飾電極對抗壞血酸(AA)具有良好的電化學(xué)響應(yīng)，并對實(shí)驗(yàn)測定條件進(jìn)行了優(yōu)化。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，在pH=4.0的鄰苯二甲酸氫鉀緩沖溶液中，掃描電位為-0.2～1.0V范圍內(nèi)，抗壞血酸在聚L-谷氨酸修飾玻碳電極表面出現(xiàn)穩(wěn)定的氧化峰。氧化峰的峰電流(Ipa)與抗壞血酸的濃度在2.0×10-5～2.0×10-3 mol/L范圍內(nèi)有良