基于平面工件盤結(jié)構(gòu)的光學(xué)薄膜厚度均勻性研究.pdf

1、光學(xué)薄膜厚度均勻性對于光學(xué)薄膜制備而言是很關(guān)鍵的一個因素，膜厚均勻性不僅決定了光學(xué)薄膜制備量產(chǎn)的數(shù)量，而且對薄膜的光學(xué)性能有重要影響，特別是對于膜厚均勻性要求極為嚴(yán)格的DWDM(密集型波分復(fù)用)極窄帶干涉濾光膜等超多層、高精度的光學(xué)薄膜，以及漸變?yōu)V光片等對膜厚分布有特殊要求的光學(xué)薄膜。光學(xué)薄膜界的前輩們早已認(rèn)識到膜厚均勻性的重要性，并深入研究了各種條件下的膜厚理論分布情況，對本文進(jìn)行膜厚均勻性的研究分析提供了有力的理論支持。 本

2、文對膜厚均勻性的研究主要針對平面工件盤結(jié)構(gòu)，重點研究了影響膜厚分布最重要的兩個因素：蒸發(fā)源的蒸發(fā)特性和蒸鍍系統(tǒng)的幾何配置。首先利用數(shù)學(xué)積分法建立一系列的數(shù)學(xué)模型來模擬分析了點蒸發(fā)源、面蒸發(fā)源等不同蒸發(fā)特性時的膜厚分布；并同樣利用積分建模法來模擬分析平面工件盤、旋轉(zhuǎn)平面工件盤和行星式平面工件盤的膜厚分布情況；然后利用數(shù)學(xué)計算軟件(№thCAD)和行星式平面工件盤的膜厚分布公式計算分析了HVC800DA型鍍膜機(jī)的理論膜厚均勻性；最后通過蒸鍍