反應磁控濺射制備氧化物光學薄膜的結構和光學性質研究.pdf

1、　　本文研究了沉積條件對薄膜的結構和光學性能的影響，薄膜的微結構與其光學性質的關系，以及如何能夠更加準確計算薄膜的光學常數(shù)，提出了一種簡單的利用兩步法薄膜的正入射透射光譜中的極大值和極小值包絡線來求解薄膜的平均折射率、消光系數(shù)和不均質的方法；該方法比傳統(tǒng)的包絡法計算的光學常數(shù)更加精確，提出了利用兩步法薄膜的透射光譜極小值的變化來計算兩步法薄膜中兩層薄膜厚度的微小差別，研究退火溫度對Nb2O5薄膜的結構和光學性質的影響，結果表明，提出了一

2、種通過測量薄膜的表面粗糙度和透射、反射光譜特性來區(qū)分薄膜的表面和體內光學散射的研究方法，在濺射功率為1Kw的條件下，20sccm氧氣流速是制備SiO2薄膜的最佳流速，薄膜具有很小光學吸收、較小的表面粗糙度和相對較高的沉積速率，在550nm波長處的折射率為1.45，在氧氣流速為15sccm時，沉積速率具有極大值；而在氧氣流速為10sccm左右時，薄膜的表面粗糙度有極大值；說明沉積薄膜的表面粗糙度不僅與沉積速率相關，還與薄膜的成分有關。