聲光晶體PbMoO-,4-的生長及其缺陷研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、鉬酸鉛(PbMoO4)單晶作為一種性能優(yōu)良的聲光晶體材料廣泛應用于聲光偏轉器、聲光調制器和聲光濾波器等各類聲光器件,是目前在可見光、近紅外和中紅外光譜區(qū)優(yōu)先選用的聲光介質材料。近年來隨著聲光調制器和聲光濾波器在光計算、光通訊和光顯微成像等技術中應用的不斷發(fā)展,對PbMoO4晶體質量的要求愈來愈高。因此深入開展提拉法生長PbMoO4聲光晶體的研究,尤其是研究晶體生長工藝參數與晶體缺陷之間的關系,以制備出低位錯、無散射、高質量的PbMoO4

2、聲光晶體,不但具有重要的理論意義,而且具有重要的社會經濟價值。 本文主要研究了PbMoO4單晶的提拉法生長工藝,討論了工藝參數對晶體質量的影響,分析了晶體主要缺陷的形成機理,探討了降低位錯密度、消除散射現象的工藝措施。主要的研究結果如下: 1、采用有限元模擬方法分析研究了在提拉法生長PbMoO4晶體過程中,工藝參數對固液界面形狀的影響。模擬結果顯示:在提拉速率和溫度梯度不變時,隨著晶體旋轉速率的增加,固液界面經歷了由凸到

3、平再到凹的變化過程;而在提拉速率和晶體旋轉速率保持不變時,隨著溫度梯度的增加,固液界面形狀則經歷了由凹到平再到凸的變化過程。根據模擬結果,優(yōu)化了提拉法生長PbMoO4晶體的工藝參數,為PbMoO4單晶生長實驗提供了理論依據。 2、通過提拉法生長PbMoO4單晶實驗,研究溫度梯度、拉速、轉速等生長參數對晶體質量的影響,從實驗上進一步優(yōu)化了提拉法生長PbMoO4晶體的工藝參數。發(fā)現當溫度梯度為20~25℃/cm、晶體轉速為25~30

4、rmp、拉速為1.5~1.6mm/h時,可生長出晶體形態(tài)完整、無開裂現象、晶體中基本無散射顆粒、位錯密度為2~3×103/cm2、平均透過率達76%、晶體尺寸為φ40×70mm的PbMoO4晶體。晶體質量已達到器件級標準,已提供國內外相關單位使用,反應良好。 3、研究了提拉法生長的PbMoO4晶體中主要缺陷的形成機理,討論分析了單晶生長的工藝參數對晶體缺陷的影響。研究發(fā)現:晶體裂縫主要與溫度梯度有關,溫度梯度大于25℃/cm,易

5、造成晶體的開裂和位錯密度的增加;由氣泡、固相包裹體組成的散射顆粒是造成PbMoO4晶體中散射現象的主要原因,并以氣泡為主;氣泡的形成與固液界面形狀有關,而固相包裹體的形成與固液界面的穩(wěn)定性有關。研究結果表明,減小溫度梯度、降低提拉速度和采用高質量的籽晶可以有效地減少位錯缺陷;在晶體生長過程中,保持整個生長系統(tǒng)的穩(wěn)定可以有效的抑制固相包裹體和生長臺階的形成;對PhMoO4晶體進行適當的氧氣氛退火則可以有效消除色心缺陷,進一步提高晶體的光學

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