開孔屏蔽體的電極化系數(shù)計算及場分布特性研究.pdf

1、在工業(yè)化和信息化發(fā)展迅速的當今時代，電磁騷擾廣泛存在，不僅影響著生產(chǎn)生活中的電子設備，甚至威脅著人體的健康，如何抑制電磁騷擾越發(fā)成為人們關注的重要問題。依靠金屬腔體對電磁騷擾進行屏蔽，是常用的技術手段之一，但由于實際需要，金屬腔體往往帶有若干開孔，大大降低了其屏蔽效能。因此，對于小孔的屏蔽特性的研究，對于開孔屏蔽體的研究和設計具有重要意義。
　　本文首先提出了研究小孔電極化系數(shù)的計算模型，并與理想模型以及理論計算結果進行對比驗證。

2、進而利用ANSYS軟件的有限元法對提出的模型的電場強度進行數(shù)值計算，根據(jù)場強結果反推出小孔的電極化系數(shù)。在對不同形狀的小孔做出討論后，得到了有限大小的屏蔽體中能夠準確求解小孔電極化系數(shù)的場強分布范圍以及電極化系數(shù)隨小孔參數(shù)的變化規(guī)律。然后利用求得的電極化系數(shù)，對開孔屏蔽體的電場分布進行了計算，并針對其提出了一種理論計算方法—等效電位法，與電極化系數(shù)法做對比研究。最后，以TCR閥中的TE板屏蔽盒模型為例分別討論了兩種方法在計算屏蔽體內電場