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1、GaSb為III-V半導(dǎo)體材料之一,其帶隙為0.726eV,電子遷移率850cm2/(Vs),用途較為廣泛,通??梢杂脕?lái)做紅外檢測(cè)器、發(fā)光二極管、晶體管、雷射二極管等。因?yàn)?GaSb正在日益成為紅外光探測(cè)器件的重要組成部分,我們對(duì)由 GaSb材料制備的許多合金納米線進(jìn)行了詳細(xì)的調(diào)查。InP作為另一種重要的III–V族半導(dǎo)體材料,由于具有獨(dú)特的光學(xué)和電學(xué)特性,近年來(lái)受到了廣泛的關(guān)注和研究。InP作為直接帶隙半導(dǎo)體,對(duì)納米技術(shù)的意義重大,對(duì)
2、于大多數(shù)需要在1.55μM通信波長(zhǎng)下運(yùn)作的光電子器件,InP可以作為襯底。我們已經(jīng)對(duì) InP及其合金的能帶結(jié)構(gòu)參數(shù)進(jìn)行了大量的研究。然而,由二元、三元合金納米線制成的紅外探測(cè)器,如InAs、InPAs和InSb納米線已被廣泛報(bào)道,據(jù)我們所知,四元合金納米線 GaInPSb的光電性質(zhì)的報(bào)道較少。我們通過(guò)讓GaSb與 InP相匹對(duì),GaSb與InP的晶格失配度為3.72%,這也為我們能形成合金提供較好的依據(jù)。在這篇文章中,GaInPSb合金
3、納米線首先通過(guò)一個(gè)簡(jiǎn)單的化學(xué)氣相沉積(CVD)法合成,并利用GaInPSb合金納米線制作了光電探測(cè)器,研究其光電特性。
本研究主要內(nèi)容包括:⑴選取簡(jiǎn)單、低成本的兩步生長(zhǎng)的化學(xué)氣相沉積法合成了高質(zhì)量的GaInPSb合金納米線。 SEM照片顯示納米線長(zhǎng)度能達(dá)到20um,線徑從50nm到100nm不等,并且證實(shí)了合成的GaInPSb合金納米線是氣液固(VLS)生長(zhǎng)機(jī)理。TEM觀測(cè)顯示 GaInPSb合金納米線具有很好的結(jié)晶性,這也證
4、實(shí)了合成的GaInPSb合金納米線為單根線組分均一的合金納米線。拉曼光譜的整體表明合成出的合金納米線有著不同的組分。⑵以合成的GaInPSb合金納米線為材料,利用光刻工藝和熱蒸發(fā)方法制作了合金納米線光電探測(cè)器。GaInPSb合金納米線器件在不同的偏壓下的 I-V曲線,表明了器件中納米線具有 n型導(dǎo)電行為。GaInPSb合金納米線探測(cè)器的光電響應(yīng)研究表明,我們的探測(cè)器對(duì)光強(qiáng)的響應(yīng)非常敏感,能夠區(qū)分光強(qiáng)的較小變化。同時(shí)反映了這種單納米線器件
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