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文檔簡(jiǎn)介
1、半導(dǎo)體量子點(diǎn)(Quantum Dots,QDs)是一類(lèi)重要的無(wú)機(jī)納米熒光材料,具有激發(fā)光譜范圍寬,發(fā)射光譜范圍窄而且具有尺寸依賴(lài)性,熒光量子產(chǎn)率高,光化學(xué)穩(wěn)定性好,熒光壽命長(zhǎng)等優(yōu)異的光學(xué)性質(zhì),因此被廣泛應(yīng)用于單光子光源,太陽(yáng)能電池,LED燈管及顯示器,生物成像等領(lǐng)域。然而,在單顆粒(分子)水平上,單顆量子點(diǎn)的熒光發(fā)射存在嚴(yán)重的閃爍(Blinking)行為,跨度從幾毫秒到幾分鐘不等。這種固有缺陷嚴(yán)重限制了量子點(diǎn)在一些需要以單個(gè)顆粒作為發(fā)射
2、光源的生物及光電領(lǐng)域的應(yīng)用。當(dāng)前部分實(shí)驗(yàn)研究表明,量子點(diǎn)“表面缺陷”引發(fā)的非輻射復(fù)合過(guò)程是導(dǎo)致閃爍行為的主要原因。
本論文從以上科學(xué)問(wèn)題出發(fā),圍繞半導(dǎo)體熒光量子點(diǎn)的合成及閃爍行為調(diào)控開(kāi)展一系列工作,從硫醇配體修飾,聚膦腈聚合物殼層包覆,量子點(diǎn)核合金結(jié)構(gòu)等角度調(diào)控量子點(diǎn)的閃爍行為,爭(zhēng)取實(shí)現(xiàn)完全或較大程度的抑制量子點(diǎn)的閃爍。主要研究工作包括以下幾個(gè)方面:
?。?)通過(guò)無(wú)機(jī)殼層形成和有機(jī)小分子硫醇配體的修飾方法調(diào)控CdSe/
3、CdS量子點(diǎn)的閃爍行為。首先,我們采用有機(jī)金屬熱分解法制備了CdSe量子點(diǎn),通過(guò)連續(xù)離子層吸附反應(yīng)法(Successive Ion Layer Adsorption andReaction,SILAR)引入CdS殼層制備CdSe/CdS核/殼量子點(diǎn)。其次,系統(tǒng)考察了不同結(jié)構(gòu)的烷基硫醇對(duì)CdSe/CdS量子點(diǎn)閃爍行為的影響,實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)硫醇修飾的CdSe/CdS量子點(diǎn)的閃爍行為取決于硫醇的結(jié)構(gòu),濃度和退火時(shí)間。量子點(diǎn)閃爍的抑制機(jī)理主要?dú)w因于硫
4、醇在高溫下分解并釋放出 S2-,并與溶液中游離的Cd2+反應(yīng)生成CdS,引發(fā)量子點(diǎn)表面重構(gòu)并進(jìn)行二次生長(zhǎng),進(jìn)而消除表面缺陷并抑制閃爍。在優(yōu)化條件下,硫醇修飾的CdSe/CdS量子點(diǎn)中有83%表現(xiàn)出不閃爍行為(監(jiān)測(cè)時(shí)間內(nèi)“明態(tài)”部分比例>99%),量子產(chǎn)率高,發(fā)射峰較窄且對(duì)稱(chēng),并具有優(yōu)良的熒光穩(wěn)定性。該方法可以推廣到其它量子點(diǎn)體系的閃爍調(diào)控。
?。?)通過(guò)溶劑熱法原位引入聚膦腈聚合物調(diào)控CdSe/CdS/polymer核/殼/殼量
5、子點(diǎn)的閃爍行為。首先,我們使用注射泵精確調(diào)控CdS殼層的生長(zhǎng),制備了粒徑更加均勻的CdSe/CdS量子點(diǎn)。進(jìn)而,將六氯環(huán)三磷腈單體分別和二硫蘇糖醇、對(duì)苯二胺、己二胺單體進(jìn)行縮聚反應(yīng),生成以環(huán)三磷腈為基本高分子骨架的聚膦腈聚合物,殼層厚度介于0.2-0.5 nm之間。通過(guò)調(diào)控單體配比等反應(yīng)條件可以控制量子點(diǎn)的閃爍行為,在優(yōu)化條件下,“明態(tài)”部分>99%的量子點(diǎn)的比例達(dá)到78%。閃爍抑制是通過(guò)聚膦腈聚合物上的巰基、苯基等官能團(tuán)鈍化量子點(diǎn)的表
6、面缺陷位點(diǎn)實(shí)現(xiàn)的。實(shí)驗(yàn)結(jié)果還表明,量子點(diǎn)表面的缺陷位點(diǎn)可以采用含有活性官能團(tuán)的聚合物進(jìn)行修復(fù)的。
(3)采用三步“一鍋”法合成高量子產(chǎn)率、長(zhǎng)熒光壽命的(Zn)CuInS/ZnS核/殼結(jié)構(gòu)量子點(diǎn)。合成步驟包括:首先,制備不同陽(yáng)離子前驅(qū)體投料比(Cu:In)的CuInS量子點(diǎn)。其次,引入硬脂酸鋅進(jìn)行原位離子交換制備(Zn)CuInS合金量子點(diǎn)。最后,以烷基硫醇作為配體和硫源引入ZnS殼層,制備(Zn)CuInS/ZnS核/殼量子點(diǎn)
7、。系統(tǒng)研究了不同陽(yáng)離子投料比對(duì)CuInS,(Zn)CuInS和(Zn)CuInS/ZnS量子點(diǎn)的熒光發(fā)射光譜、紫外可見(jiàn)吸收光譜、熒光衰退曲線(xiàn),以及晶體生長(zhǎng)速率的影響。實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)在(Zn)CuInS量子點(diǎn)合金化和ZnS殼層生長(zhǎng)過(guò)程中,量子點(diǎn)的熒光光譜和紫外光譜持續(xù)發(fā)生藍(lán)移,熒光發(fā)射峰在530-550 nm處達(dá)到平衡。同時(shí),量子點(diǎn)尺寸在合金化過(guò)程中先減小,然后隨ZnS殼層的引入不斷變大。(Zn)CuInS/ZnS量子點(diǎn)具有高量子產(chǎn)率(74%)
8、,長(zhǎng)熒光壽命(755 ns)以及優(yōu)異的光學(xué)穩(wěn)定性。該實(shí)驗(yàn)方法可以為合成其它全溶液基、多組分、高熒光產(chǎn)率的量子點(diǎn)提供工藝上的指導(dǎo)。
(4)研究了(Zn)CuInS/ZnS量子點(diǎn)的閃爍行為。據(jù)我們所知,現(xiàn)階段關(guān)于量子點(diǎn)閃爍行為的研究主要集中在CdSe和CdTe量子點(diǎn),而針對(duì)CuInS量子點(diǎn)閃爍行為的研究則鮮有報(bào)導(dǎo)。實(shí)驗(yàn)研究了不同陽(yáng)離子前驅(qū)體投料比下制備的(Zn)CuInS量子點(diǎn),以及不同ZnS殼層生長(zhǎng)時(shí)間下(Zn)CuInS/Zn
9、S量子點(diǎn)的閃爍行為,發(fā)現(xiàn)陽(yáng)離子的投料比對(duì)量子點(diǎn)的單顆粒熒光發(fā)射行為具有重要作用。在Cu:In:Zn化學(xué)投料比為1:2:3和1:4:3下制備的(Zn)CuInS量子點(diǎn)均表現(xiàn)出不閃爍行為。(Zn)CuInS/ZnS量子點(diǎn)(Cu:In:Zn的化學(xué)投料比為1:2:3)在ZnS殼層生長(zhǎng)20 h內(nèi)都表現(xiàn)出不閃爍行為,而(Zn)CuInS/ZnS量子點(diǎn)(Cu:In:Zn化學(xué)投料比為1:4:3)則表現(xiàn)出從不閃爍到閃爍的轉(zhuǎn)變。閃爍的抑制是通過(guò)精確調(diào)控(Z
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