脈沖激光燒蝕的等離子體動力學(xué)和在薄膜制備上的應(yīng)用.pdf

1、復(fù)旦大學(xué)碩士學(xué)位論文脈沖激光燒蝕的等離子體動力學(xué)和在薄膜制備上的應(yīng)用姓名：潘偉劍申請學(xué)位級別：碩士專業(yè)：光學(xué)指導(dǎo)教師：吳嘉達(dá)20040526脈沖激光燒蝕的等離子體動力學(xué)和在薄膜制備上的應(yīng)用摘要別以石墨和B4C為靶材料、在電子回旋共振(ECR)微波放電產(chǎn)生的氮等離子體環(huán)境中脈沖激光燒性靶材料合成制備CN和BCN薄膜，并用盧瑟福背散射(RBS)X射線光電子譜(XPS)、傅立葉變換紅外譜(FTIR)等手段對薄膜的成分和結(jié)構(gòu)進(jìn)行了分析表征。在所

2、有制備的薄膜材料中，碳原子以多種化學(xué)結(jié)構(gòu)的方式存在，包括無定型碳在BC薄膜中，棚原子大多數(shù)與碳原子結(jié)合成鍵在CN薄膜中，大多數(shù)的氮原子與碳相結(jié)合在BCN薄膜中氮原子的含量達(dá)到46%左右，膜層中化學(xué)結(jié)構(gòu)復(fù)雜，包含BNBCC一和BC一多種化學(xué)健。采用脈沖激光沉積方法既可以在真空中成膜，也可以在特定的背景氣氛中和其它輔助手段結(jié)合使用，本工作表明用ECR等離子體輔助可以有效地進(jìn)行化合物薄膜材料的合成制備。關(guān)鍵詞:脈沖激光燒蝕，等離子體動力學(xué)，等