基于時間序列的s-EWMARtR控制中SPC控制圖的設計.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、Run-to-Run(RtR)過程控制自上世紀90年代提出之后，已獲得了大量的研究與發(fā)展。它是SPC與EPC的一種聯(lián)合控制方法，取各自的優(yōu)點，彌補彼此的缺點。現(xiàn)有大量文獻都是集中在過程中有確定漂移趨勢時，如何在EPC中改進調(diào)整措施，少有文獻研究改進SPC在控制過程中的作用，多是用輸出值與目標值的偏差做簡單的休哈特控制圖，但該偏差并不是獨立同分布的，由此得到的統(tǒng)計性質(zhì)并不可靠。
　　 本文在s-EWMA RtR過程控制中引入時間序

2、列分析，可以得到一個獨立同分布的殘差，在此基礎上可以作各種標準的SPC控制圖，不但可以對過程漂移趨勢(尤其是小漂移)進行快速檢測，還可以檢驗對過程噪聲因子的假設。同時，本文還提出了s-EWMA RtR過程控制加權因子的最優(yōu)選擇準則；已有文獻是從狀態(tài)空間理論出發(fā)來解決該問題，然而它受限于對過程噪聲因子為白噪聲的假定，本文提出的準則不限于該假定，而是擴大到一般的ARIMA(p，d，q)序列。最后，本文對RtR，MMSE，及PID三個工業(yè)生產(chǎn)

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