插層化合物Li-,x-TiS-,2-有序結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性的第一性原理研究.pdf

1、本論文依據(jù)插層化合物中插層離子有序－無序相變的事實和插層離子的有序結(jié)構(gòu)對材料性能的決定作用，選定插層離子的有序結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性等問題為研究對象。 Materials Studio 是一種比較先進的基于密度泛函理論的第一性原理材料模擬和計算軟件，本論文就是利用這套軟件對用密度波方法所確定的有序結(jié)構(gòu)模型的穩(wěn)定性進行了研究。具體操作是，根據(jù)插層化合物LixTiS2 已有的晶體結(jié)構(gòu)參數(shù)，用Visualizer 建立有序結(jié)構(gòu)模型。選擇合適的的參

2、數(shù)設(shè)置，用CASTEP 對該結(jié)構(gòu)模型進行幾何優(yōu)化計算，得到對應(yīng)的能量和晶格參數(shù)，而后計算結(jié)構(gòu)模型的態(tài)密度和能帶結(jié)構(gòu)并進行分析，最終得出結(jié)論。 計算結(jié)果發(fā)現(xiàn)：在三角晶格的有序結(jié)構(gòu)中，形成能隨Li離子濃度先減小后增加。晶格參數(shù)C0 隨Li 離子濃度單調(diào)增加。這與實驗測試結(jié)果是一致的。這種影響源于Li 離子與母體間的相互作用。 在六角蜂窩晶格的有序結(jié)構(gòu)中，晶格參數(shù)C0 隨Li 離子濃度先增加后減小。這種變化源于S 原子對Li