ZrO-,2-薄膜生長(zhǎng)及其工藝對(duì)微結(jié)構(gòu)的影響.pdf_第1頁(yè)
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1、ZrO<,2>薄膜生長(zhǎng)及其工藝對(duì)微結(jié)構(gòu)的影響凝聚態(tài)物理專(zhuān)業(yè)研究生 陳松林指導(dǎo)教師 趙北君 教授摘要ZrO2具有高熔點(diǎn)(2608℃)、較高的介電常數(shù)和折射率,在可見(jiàn)和近紅外區(qū)域有很高的透明度,同時(shí)具有良好的機(jī)械性能和化學(xué)惰性,其激光損傷閾值也較高,是一種很好的光學(xué)薄膜材料.目前鍍制大尺寸光學(xué)元件比較成熟的制備手段是電子束蒸發(fā)沉積鍍膜技術(shù).隨著激光應(yīng)用朝高功率、高能量方向發(fā)展,對(duì)光學(xué)元件提出了越來(lái)越高的要求,有必要進(jìn)一步改善光學(xué)薄膜的質(zhì)量.

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