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文檔簡介
1、測量光學非線性的Z-掃描法自從1989年由Sheik等人提出以來,由于其實驗裝置簡單,而靈敏度又高等優(yōu)點得到迅速的推廣和應用.從研究的非線性效應來看,Z掃描法以往主要用于研究光克爾效應、光折變效應和可飽和三階非線性效應.該文把Z掃描法推廣到對光致異構(gòu)引起的折射率改變效應的研究.偶氮苯聚合物的光致異構(gòu)是一種很重要的光化學性質(zhì),幾十年來一直是光子學領(lǐng)域的一個研究熱點.光致異構(gòu)能夠引起材料的折射率的改變,該文基于光致異構(gòu)過程的一個模型——"角
2、燒孔"機制,推導出光致異構(gòu)引起的折射率改變公式.對于激發(fā)光是線偏振光和圓偏振光(或無偏振光)的情況,該公式形式上和可飽和三階非線性折射率改變公式一樣.對線偏振光:△n=n2Is I/I+Is;對圓偏振光或非偏振光:△n=n'2I's I/I+I's;且n2=1.5n'2.該文針對上述折射率改變公式推導出一個Z掃描曲線擬合公式,并用Z掃描法對摻雜偶氮苯化合物DRl3的PMMA薄膜進行了實驗.從總體上來說,實驗結(jié)果與理論分析的結(jié)果符合得較好
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