修正板改善薄膜厚度均勻性的研究.pdf

1、經過一百多年的發(fā)展，薄膜光學已經成為近代光學的重要分支。光學薄膜技術在理論、設計、計算和工藝方面已形成了完整的體系，一些新型微觀結構的功能薄膜被不斷開發(fā)出來，這些功能薄膜的相繼出現(xiàn)，使得光學薄膜技術廣泛地滲透到各個新興的科學研究領域中。薄膜技術也逐漸成為高科技產品加工技術中的重要手段。而其制備過程中可能會存在的膜層均勻性問題，是一個非常值得注意的問題。
　　 薄膜厚度的均勻性，反映了待鍍基片上所沉積的薄膜厚度依基片在真空室里所處

2、位置的變化而變化的情況。膜厚均勻性包括兩個方面：一是在同一組鍍制過程中處于不同基片位置沉積的薄膜有近似的膜厚分布；二是獲得的每片薄膜只存在一定范圍內的膜厚誤差分布。前者保證產業(yè)化的鍍膜效率，后者保證每個成品的性能。膜厚均勻性是衡量鍍膜裝置性能和薄膜質量的一項重要指標，直接影響到鍍膜器件的可靠性、穩(wěn)定性，以及產品的一致性。對光學、光電等器件生產的成品率影響很大。因此，需要把握膜厚的分布規(guī)律，尋求大面積、最佳膜厚均勻性的薄膜。
　　

3、 本文介紹了制備薄膜的幾種物理氣相沉積方法的原理和特點：真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍。對膜厚均勻性的影響因素作了分析，包括蒸發(fā)源、基板溫度、基板與蒸發(fā)源相對位置、真空室?guī)缀闻渲靡约盎逍D角度的影響。通過添加修正檔板，以電子束蒸發(fā)法鍍制的TiO2薄膜膜厚分布為研究對象，改善膜厚均勻性。對于膜厚的分布進行了理論分析和實驗驗證，介紹了不同夾具下的理論膜厚分布，如平面旋轉夾具、球面旋轉夾具、行星夾具。闡述了弱吸收透明薄膜的光學常數(shù)計算方法，以此計算