硅片檢測運動平臺垂向精密運動機構(gòu)的研究與設(shè)計.pdf

1、硅片表面顆粒污染檢測在當今極大規(guī)模集成電路制造中扮演著日益重要的角色。為了保證檢測效率以滿足產(chǎn)能需要，硅片檢測運動平臺需采用高速旋轉(zhuǎn)、連續(xù)進給的螺旋運動對硅片進行掃描。旋轉(zhuǎn)運動的軸向跳動導致硅片表面偏離光學檢測的焦平面，造成成像質(zhì)量下降。對于未來45-22nm工藝節(jié)點而言，需保證旋轉(zhuǎn)運動臺的垂向定位精度達±0.5μm，這對硅片檢測運動平臺垂向精密運動機構(gòu)的設(shè)計和控制提出了嚴峻的挑戰(zhàn)。
　　本文主要開展硅片檢測運動平臺垂向精密運動機

2、構(gòu)的總體方案設(shè)計、零部件選型及結(jié)構(gòu)設(shè)計分析、垂向定位控制系統(tǒng)設(shè)計以及相應(yīng)的實驗研究，主要工作和成果如下：
　　根據(jù)硅片檢測運動平臺的總體指標要求，分析了垂向精密運動機構(gòu)的功能和性能需求，提出了滾動導軌導向、氣缸平衡重力、音圈電機實現(xiàn)位置補償控制的垂向精密運動機構(gòu)總體方案，同時滿足了換片工序的垂向大行程運動和檢測工序的精密定位要求。
　　開展了氣缸、音圈電機、光柵尺和滾動導軌等關(guān)鍵部件的分析、選型與校核研究，完成了垂向精密運動