基于IMD技術的印刷質(zhì)量控制研究——基于IMD技術的薄膜印刷適性研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、近些年來，模內(nèi)裝飾鑲嵌注塑技術(IMD)從雙層膠片層間黏結(jié)結(jié)構，發(fā)展到注塑成型多元結(jié)構的三維成型技術，其中的油墨易與片材分離是關鍵的工藝問題。PC與PET是應用最廣泛的IMD薄膜，但兩者表面張力較低，對油墨的親和性較小，粘結(jié)性及可印性都比較差。國內(nèi)目前在印刷行業(yè)內(nèi)普遍應用的薄膜表面改性技術是電暈處理法，但該方法有較大的局限性。所以，使用一種更有效的方法來改善IMD薄膜的印刷適性以及應用一種精度更高的測量方式來評價該改性方法對薄膜印刷適性

2、的改善程度顯得非常重要。
　　 本論文將低溫等離子體技術應用到IMD技術中，嘗試使用氧等離子體來提高PC與PET薄膜的表面能，增加表面粗糙度，從而達到改善薄膜印刷適性的目的；同時將納米劃痕技術引用到油墨與薄膜界面的附著力計算中，從而定量的評價低溫等離子體技術對薄膜表面改性的程度。首先從接觸角、表面張力與粗糙度等因素對附著強度的影響進行了薄膜的印刷適性理論分析；其次分別對PC、PET薄膜進行了低溫氧等離子體改性實驗；等離子體處理后

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