PVD涂層的性能及其在銀幣模具上的應(yīng)用.pdf

1、隨著造幣行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)的不斷激烈化、高速壓印機(jī)的大量使用，新的壓印金屬材料和合金材料的出現(xiàn)，大眾對(duì)錢(qián)幣質(zhì)量要求的不斷提高，造幣廠的造幣技術(shù)已經(jīng)達(dá)到相當(dāng)高的水平。為此，對(duì)造幣模具提出了更加苛刻的要求，發(fā)展優(yōu)質(zhì)模具材料和先進(jìn)的表面處理技術(shù)成為緊迫的任務(wù)。表面工程作為一門(mén)新興的綜合性學(xué)科，近年來(lái)，在國(guó)內(nèi)外得到了迅速的發(fā)展。實(shí)踐證明，表面工程的運(yùn)用能有效改善材料的表面性能，提高生產(chǎn)力，節(jié)約資源。
　　本論文在總結(jié)了國(guó)內(nèi)外一些常用的制備表面涂層技

2、術(shù)的基礎(chǔ)上，利用磁控濺射法制備TiN、CrN、CrTiN、DLC涂層，并分析了制備涂層的性能和制備工藝。同時(shí)利用磁控濺射技術(shù)制備了CrTiAlN復(fù)合涂層，通過(guò)不同參數(shù)的匹配分別進(jìn)行了四組試驗(yàn)，優(yōu)化了工藝參數(shù)，在冷作模具鋼ASSAB635鋼料表面沉積了CrTiAlN復(fù)合涂層，并對(duì)涂層的結(jié)構(gòu)、成分和主要性能進(jìn)行了分析。
　　本文經(jīng)過(guò)不同參數(shù)組合的四組試驗(yàn)得出了最佳的用磁控濺射技術(shù)制備CrTiAlN涂層的兩組工藝參數(shù):
　　Tes

3、t2#試驗(yàn)條件:Cr靶電流為4Amps，Ti、Al靶電流為5Amps，鍍鉻時(shí)間第3步300s、第4步1200s，鍍CrTiAlN鍍層的時(shí)間第5步4800s，第6步11200s; Test2#條件制備的CrTiAlN涂層只適合在鏡面條件下使用而不適合做砂面處理。
　　Test4#式驗(yàn)條件:Cr靶電流為4Amps，Ti、Al靶電流為8Amps，鍍鉻時(shí)間第3步300s、第4步1200s，鍍CrTiAlN鍍層的時(shí)間第5步2400s，第6步