鎂合金微弧氧化—化學鍍鎳復合處理研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩63頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內容提供方,若內容存在侵權,請進行舉報或認領

文檔簡介

1、微弧氧化是在陽極氧化工藝基礎上發(fā)展起來的一項新型表面處理技術,它是利用等離子體微區(qū)弧光放電現(xiàn)象在金屬表面原位生長出一層陶瓷膜,以起到改善材料耐磨性、耐蝕性及絕緣性能的作用。同樣,化學鍍鎳作為一種優(yōu)良的表面處理技術,能夠在形狀復雜的鑄件上得到厚度均勻的鍍層,近年來得到廣泛的重視和應用。本論文把微弧氧化技術及化學鍍技術的優(yōu)點結合起來,對鎂合金進行微弧氧化—化學鍍鎳復合處理,制備了具有良好耐蝕性、耐磨性且表面清潔美觀的復合涂層。 本論

2、文初步研究了微弧氧化的時間及電解溶液的濃度對氧化膜層的影響,并對氧化膜層的形成機理及生長過程進行了探討;在傳統(tǒng)鎂合金化學鍍鎳方法的基礎上,對鍍液成分和操作工藝條件等進行了改進;對微弧氧化層及化學鍍鎳層進行了性能檢測與分析。結果表明: 1.在硅酸鈉電解溶液中,氧化陶瓷膜層的厚度隨著氧化時間及溶液濃度的增大而增加;當電解溶液的濃度超過某一定值時,鎂合金表面會出現(xiàn)一些類似島狀的物質。 2.在硅酸鈉電解溶液中,鎂合金試樣形成的氧

3、化陶瓷膜層表面布滿了微弧放電形成的孔洞,孔洞尺寸大小均勻。 3.對微弧氧化膜層的形成機理進行了初步探討,認為在電解溶液中鎂合金表面會馬上生長出一層氧化膜,為了維持這層氧化膜的生長,必須提高電壓。但當電壓達到某一臨界值,氧化膜層會被局部擊穿熔融,產生火花放電。微弧氧化膜并不是在所有表面上同時生長的,而是在不斷增加電壓的過程中局部擊穿與生長,導致全面增厚而最后達到指定電壓的極限厚度。 4.鎂合金微弧氧化后進行化學鍍鎳,若其前

4、處理工藝采用酸洗、活化的傳統(tǒng)方法,微弧氧化層將會被完全腐蝕掉。因此,本試驗探索了新的前處理工藝,即直接進行敏化、活化、還原,而不需要進行粗化處理。 5.主鹽、還原劑、穩(wěn)定劑、絡合劑、pH值、溫度等對鍍速和鍍液的穩(wěn)定性均有很大的影響,要兼顧這些影響因素以達到較好的綜合效果。 6.當鍍鎳層厚度達到15μm時,已測不到肉眼可見的孔隙;利用熱震實驗和銼刀實驗評價鍍層的結合力,結果表明鍍層的結合力良好;化學鍍層的濃硝酸實驗表明化學

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網頁內容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論