曲面激光直寫光刻技術(shù)研究.pdf

1、本文重點(diǎn)討論了曲面光刻的關(guān)鍵技術(shù)——自動(dòng)調(diào)焦系統(tǒng)，并對曲面工藝及光刻線條進(jìn)行實(shí)驗(yàn)分析。 在曲面調(diào)焦系統(tǒng)調(diào)焦范圍過小這一問題上，提出步進(jìn)電機(jī)、壓電陶瓷二級定位驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。通過PID比例調(diào)節(jié)，很好的解決了二級驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的控制冗余問題。在此基礎(chǔ)上，提出全新的預(yù)搜索機(jī)制，完成初始化時(shí)的物面焦點(diǎn)搜索，使得系統(tǒng)對基片厚度變化有較大的適應(yīng)性。 在曲面探焦方法的選擇上，首先我們分析了現(xiàn)有探測方法——離軸二象限探測器法，根據(jù)zemax光線仿真

2、結(jié)果，我們得出了離軸二象限法在曲面調(diào)焦問題上不再具有可行性。為此我們提出兩種實(shí)現(xiàn)方法，偏心光束法和針孔調(diào)焦法。針對針孔調(diào)焦法不能給出離焦方向這一問題，我們借鑒雙管差動(dòng)原理，不僅可以給出離焦方向，同時(shí)差動(dòng)還可以消除外界因素的影響，提高系統(tǒng)調(diào)焦精度，找到了理論上曲面調(diào)焦探測的較佳方法。 同時(shí)，我們對曲面甩膠工藝進(jìn)行了理論分析，建立了膠層流體力學(xué)模型，得出凸球面的膠層厚度變化趨勢和曲面的曲率、勻膠轉(zhuǎn)速的關(guān)系。通過曲面光刻實(shí)驗(yàn)，我們在曲