版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內容提供方,若內容存在侵權,請進行舉報或認領
文檔簡介
1、隨著電力行業(yè)快速發(fā)展,取向硅鋼需求量逐步增多,對性能要求逐步增高,并由此引起對取向硅鋼鐵損降低技術的廣泛關注。為進一步提高性能,本文重點研究了激光刻痕細化磁疇降低取向硅鋼鐵損技術,圍繞細化磁疇降低鐵損核心機理,本文主要工作及其進展包括以下方面:
(1)通過添加活性劑,并結合現(xiàn)代磁流體配制新工藝,本文研發(fā)了具有較高穩(wěn)定性的磁流體,且磁性顆粒粒徑為納米數(shù)量級(約50nm)。經驗證,磁疇顯示效果較好,便于使用,且保存期限延長至3個月
2、以上。
(2)理論分析激光刻痕降低取向硅鋼鐵損機理,由分析推導結果,指出影響刻痕效果的主要因素,即:180°疇壁穿越刻痕區(qū)比例α,單個晶粒內刻痕線數(shù)量n及硅鋼基體厚度h等,并進一步得出激光刻痕加工中應控制的主要工藝參數(shù);同時,推導取向硅鋼基體的最佳晶粒尺寸(約5.85mm),并結合刻痕加工中參數(shù)α確定刻痕線間距為5mm。
(3)通過激光刻痕實驗,本文詳細研究了初始鐵損、取向度(B8)和應力狀態(tài)對細化磁疇降低鐵損效果的
3、影響特點。結果表明:取向度接近條件下,初始鐵損較高,鐵損降低幅度較高;取向度越高,則鐵損終值越低;剪切加工形成的殘余應力使鐵損降低幅度顯著減小。
(4)通過對多組試樣進行刻痕加工,本文研究了激光刻痕較佳工藝參數(shù),刻痕速度可達1000mm/s,使30Q135牌號取向硅鋼應力態(tài)試樣平均鐵損由1.478W/kg降至1.366W/kg,平均鐵損降幅達到7.58%。同時,本文據(jù)較佳工藝參數(shù)提出激光刻痕中試設備概念模型,支持中試設備設計。
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網頁內容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
- 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 取向硅鋼激光刻痕關鍵技術研究.pdf
- 取向硅鋼激光刻痕技術工藝與模擬研究.pdf
- 球刻痕對Fe-3%Si取向硅鋼磁性能影響的研究.pdf
- 曲面激光直寫光刻技術研究.pdf
- 激光氮化改善取向硅鋼性能的研究.pdf
- 激光刻尺機關鍵技術研究.pdf
- 取向硅鋼脫碳研究.pdf
- 數(shù)字激光刻線加工機關鍵技術研究.pdf
- 激光投影光刻機光學對位技術研究.pdf
- 激光干涉光刻技術.pdf
- 脈沖激光曝光SU-8光刻膠的基礎與光刻技術研究.pdf
- 取向硅鋼行業(yè)深度報告
- 厚膠光刻技術研究.pdf
- 降低線損的技術措施
- 低溫取向硅鋼底層質量的研究.pdf
- 取向硅鋼行業(yè)深度報告
- 厚膠光學光刻技術研究.pdf
- 低溫取向硅鋼滲氮工藝的研究.pdf
- 無取向硅鋼半有機絕緣涂層研究.pdf
- 無取向硅鋼硫元素控制技術的開發(fā)與優(yōu)化.pdf
評論
0/150
提交評論