微細加工技術(shù)論文

1、微細加工技術(shù)1微細加工技術(shù)微細加工技術(shù)1.微細加工技加工技術(shù)現(xiàn)術(shù)現(xiàn)狀1990年微細加工技術(shù)的生產(chǎn)水平是100μm到08μm。到1994年16MDRAM64MDRAM已生產(chǎn)254MDRAM也將投入生產(chǎn)。16—64MDRAM用03μm~04μm的微細加工技術(shù)。256MDRAM用025μm的加工技術(shù)。目前實驗室已做出1000MDRAM的產(chǎn)品。也就是說01μm~008m的微細加工技術(shù)不久也將投入生產(chǎn)。當(dāng)前微細加工技術(shù)的動向是:一方面將生產(chǎn)16—

2、64MDRAM的設(shè)備進行改進以提高生產(chǎn)率另一方面是開發(fā)新工藝、新設(shè)備。微細加工技術(shù)的關(guān)鍵是曝光技術(shù)和干蝕技術(shù)。我們將以這兩方面為重點介紹微細加工技術(shù)的現(xiàn)狀和發(fā)展動態(tài)。116—64MDRAM生產(chǎn)技術(shù)的改進當(dāng)前生產(chǎn)16MDRAM的設(shè)備一般都能生產(chǎn)64MDRAM。它們主要用縮小投影曝光裝置典型的有NSR—2005i10cEx10BNSR4425i。其主要參數(shù)如表1所示?？s小投影曝光裝置的特點上述三種裝置都能生產(chǎn)1464MDRAM器件其中NSR

3、4425i能生產(chǎn)256MDRAM器件光刻水平達到025μm。表1主要參數(shù)這三種設(shè)備校正系統(tǒng)都經(jīng)過改進穩(wěn)定性大大提高。同時對干涉反射鏡曲線進行補正。干涉光路進行空調(diào)使精度大大提高。另外對放大倍率也進行補償和修正。使誤差控制在10nm以下。使用準(zhǔn)分子激光器使曝光功率下降曝光成本下降。NSR4425i是一種成本較低而性能優(yōu)良的設(shè)備由于它采用了混合和匹配平臺能生產(chǎn)16M、64M、256MDRAM器件。場尺寸達44mm44mm主流場為22mm44

4、mm生產(chǎn)256MDRAM器件月產(chǎn)達2萬只。1.11.1印刷式曝光機印刷式曝光機1.1.11.1.1概要概要它是一種等倍率曝光機采用混合和匹配平臺具有“印刷”功能故而又稱它為超技術(shù)步進機。其突出優(yōu)點是生產(chǎn)性高而成本低。該類機中的優(yōu)秀者是224i型。它使用i線作曝光光線大口徑光學(xué)系統(tǒng)超高精度的平臺曝光光的波長為355~375nm。每小時能生產(chǎn)200mm片80枚。150mm片105枚主要參數(shù)如表2所示。微細加工技術(shù)3表4HL—800D系列基本

5、參數(shù)一次成型掃描法是通過轉(zhuǎn)寫掩膜形成的如圖1所示通過轉(zhuǎn)寫掩膜可一次形成較為復(fù)雜的圖形或使掃描線更精度。圖1一次成型和可變成型掃描圖通過使用補償法并運用轉(zhuǎn)寫掩膜或可以提高掃描速度或可以提高掃描線的精細程度但其代價是失去了無掩膜的優(yōu)點(有轉(zhuǎn)寫膜)。用轉(zhuǎn)寫掩膜該裝置可達到005μm的直線尺寸精度可達到015μm甚至有人說這類設(shè)備將來可生產(chǎn)1GDRAM器件。1.31.3干蝕技術(shù)干蝕技術(shù)在微細加工中尤其是達到025μm水平的精細加工中干蝕技術(shù)就顯