基于微細(xì)加工技術(shù)的光柵研制.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、 在這篇論文里描述了幾種新的光柵制作方法,分別可以用來制作凹面光柵、凸面光柵和周期可變光柵。同步輻射X光束的光強(qiáng)分布是遵循高斯分布的,即中間強(qiáng),四周弱,利用此性質(zhì),可以直接對PMMA基板進(jìn)行曝光,顯影后得到凹面,然后在用帶有光柵圖形的掩膜板光刻,即可得到凹面光柵。設(shè)計(jì)了一種由銅薄膜和Kapton薄膜構(gòu)成的簡單X射線光刻掩膜板,這種掩膜不僅制造簡單、成本低,而且可以任意彎曲,將它貼在一個(gè)PMMA圓柱上,光刻后即可在上形成凸面光柵。還設(shè)計(jì)

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