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文檔簡介
1、為了研究 Al/CuO含能橋多點點火能力,采用磁控濺射鍍膜技術制備 Al/CuO含能橋,利用掃描電子顯微鏡測量出Al膜的沉積速率為9.50nm/min,CuO膜的沉積速率為26.06nm/min。通過對掩膜精度、含能橋相對靶材位置的分析,進而得出與含能橋電阻的關系。結果表明:掩膜板長寬比越大,含能橋電阻越大。位于濺射中心的地方含能橋電阻較小。同時觀察出掩膜板與基片貼合程度發(fā)現(xiàn)兩物質間貼合的有縫隙時會出現(xiàn)衍射現(xiàn)象,影響含能橋質量。
2、 設計含能橋橋型,制備Al/CuO含能橋,分析含能橋濺射順序、薄膜厚度、橋反應區(qū)長寬比以及橋反應區(qū)面積對含能橋發(fā)火電壓、點火電壓的影響,結果表明:含能橋濺射順序為Al/CuO膜的點火電壓較低,點火能力較強;含能橋薄膜總厚度2.000μm時點火電壓較低為198.5V;含能橋反應區(qū)面積越大,點火電壓越低,其中橋反應區(qū)面積為1.2996mm2時,點火電壓較低;含能橋反應區(qū)長寬比越小,點火電壓越低,其中橋反應區(qū)長寬為0.6×1.7mm2,點火
3、電壓較低。
對于平行放置時的多點含能橋,觀察橋反應區(qū)破損程度分析含能橋長寬比、含能橋Al/CuO摩爾比以及發(fā)火電壓對相鄰兩橋間的安全距離的影響,結果表明:含能橋長寬為0.8×1.28mm2,相鄰橋心的安全距離較大,為2.28mm;含能橋Al/CuO摩爾比為-16%時,相鄰橋心的安全距離較大,為1.7mm;隨著含能橋發(fā)火電壓的增大,相鄰橋心間的距離逐漸增大,當發(fā)火電壓增大到一定時,相鄰橋心間距離將趨近于定值1.8mm;采用含能橋
4、多點點火時,點火電壓逐漸減低。
利用高速攝像儀來研究含能橋的輸出特性時,發(fā)現(xiàn)含能橋在點燃鈍感點火藥的全過程分為三個階段:含能橋電爆階段、含能橋點燃鈍感點火藥階段以及點火藥燃燒階段。采用雙橋點火時,所出現(xiàn)的大火花時間小于單點點火時最大火花時間,判斷出雙橋點火能力較大。運用PCC軟件處理得到,當含能橋反應區(qū)面積為0.7396mm2時,經過2.160ms點燃點火藥;當面積為0.3025mm2時,經過7.300ms點燃點火藥,結果表明
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