2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
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文檔簡介

1、光學(xué)晶體磷酸二氫鉀(Potassium Dihydrogen Phosphate以下簡稱KDP)是一種典型并廣泛使用的非線性光學(xué)晶體材料,由于KDP晶體具有脆性大,易潮解,易開裂,加工難度大的特點(diǎn),被認(rèn)為是典型的難加工材料。為了滿足激光慣性約束核聚變對KDP晶體所需的面形精度、表面質(zhì)量的高要求,本文針對降低KDP晶體表面粗糙度和消除KDP晶體表面周期性刀痕,采用低能離子束進(jìn)行KDP晶體的拋光工藝研究。主要研究內(nèi)容如下:
  (1)

2、IBSE500離子束拋光系統(tǒng)的性能研究。針對離子束拋光系統(tǒng)的性能研究,以小口徑拼接的方式,模擬了口徑為430mm光學(xué)元件,并對此光學(xué)元件進(jìn)行離子束濺射沉積和刻蝕拋光工藝實(shí)驗(yàn),得到該設(shè)備離子束濺射沉積均勻性在5%以內(nèi),刻蝕均勻性在5%以內(nèi),為后續(xù)研究過程中獲得高精度光學(xué)元件奠定了基礎(chǔ)。
  (2)平坦化層的應(yīng)力研究。針對KDP晶體表面平坦化層易起皺損壞現(xiàn)象,建立模型并結(jié)合理論計(jì)算了平坦化層應(yīng)力;利用COMSOL模擬并與實(shí)驗(yàn)進(jìn)行對比,

3、驗(yàn)證了模型的正確性,并找到間歇鍍膜制作平坦化層的方法,得出每濺射沉積30min間歇120min,而獲得厚度為100nm時,應(yīng)力較小的平坦化層,膜層的粗糙度達(dá)到0.9nm。
  (3)平坦化層材料的選擇。為了獲得對KDP晶體表面平坦化效果較優(yōu)的層材料,進(jìn)行了一系列研究。首先,在離子束電壓為500V,離子束電流為150mA,加速電壓300V,加速電流100mA,Ar流量35sccm,工作壓強(qiáng)為5.71×10-1Pa時對比Si和SiO2

4、平坦化效果,優(yōu)選出Si平坦化層材料;然后,保持其它參數(shù)不變,研究了離子束電壓與Si平坦化層表面粗糙度之間的規(guī)律,得出離子束電壓為600V時,粗糙度改變量最大為1.02nm。
  (4)KDP晶體離子束刻蝕后表面研究。首先,對離子束刻蝕后的KDP晶體表面作拉曼、XRD等測試分析,驗(yàn)證了離子束拋光不會造成晶體表面物質(zhì)重構(gòu);其次白光干涉儀測試表明了離子束刻蝕可以消除KDP晶體表面周期性刀痕。
  (5)KDP晶體表面平坦化層效果轉(zhuǎn)

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