基于全息光刻法的紅外光子晶體薄膜的研制.pdf

1、光子晶體作為新型的人工電磁介質(zhì)材料，具有優(yōu)異的性能和廣闊的應(yīng)用前景，近年來(lái)國(guó)內(nèi)外對(duì)光子晶體尤其是對(duì)于一維和二維的光子晶體研究比較深入，但是對(duì)于三維光子晶體的制備與研究成果相對(duì)較少，可以說(shuō)光子晶體已經(jīng)成為光學(xué)領(lǐng)域的一個(gè)研究熱點(diǎn)。
　　本文主要利用激光全息的方法制備柔性光子晶體薄膜，并結(jié)合了接觸式曝光光刻技術(shù)、激光全息光刻技術(shù)、模壓復(fù)制技術(shù)和疊層等相關(guān)技術(shù)的制備方法。
　　本論文的主要工作有：
　　1.綜合闡述了光子晶體的

2、概念、結(jié)構(gòu)、特性以及制備方法，特別介紹了激光全息光刻法制備光子晶體的相關(guān)理論。論文中著重介紹了激光全息光刻中光致抗蝕劑的原理與實(shí)際應(yīng)用，以及激光全息光刻的研究進(jìn)展工作等。
　　2.論文的第二、三章內(nèi)容為之后實(shí)驗(yàn)的進(jìn)行提供了扎實(shí)的理論依據(jù)。結(jié)合PVC接觸式光刻、基于鉻版的激光全息光刻和PDMS的轉(zhuǎn)印技術(shù)搭建了制備二維光子晶體薄膜的平臺(tái)，并成功制備了具有柔軟性質(zhì)的二維光子晶體薄膜。同時(shí)也利用模壓復(fù)制技術(shù)、疊層技術(shù)制備了三維光子晶體薄膜