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![鉻摻雜碳基多功能性薄膜的制備及其性能研究.pdf_第1頁(yè)](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/14/17/e42afde8-503c-4ee9-8bdb-8121bc995cb6/e42afde8-503c-4ee9-8bdb-8121bc995cb61.gif)
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1、類(lèi)金剛石(DLC)薄膜由金剛石相(sp3碳雜化結(jié)構(gòu))和石墨相(sp2碳雜化結(jié)構(gòu))組成,具有眾多優(yōu)良的性能,如硬度高、摩擦系數(shù)低、透光性能好、化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,具有一定的生物相容性等。DLC薄膜作為一種新型薄膜材料,可被廣泛應(yīng)用在機(jī)械、光學(xué)、電子學(xué)、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。然而,在基礎(chǔ)研究與實(shí)際應(yīng)用過(guò)程中,發(fā)現(xiàn)DLC薄膜的缺陷,如較高的內(nèi)應(yīng)力,韌性和熱穩(wěn)定性差等,會(huì)削弱薄膜的性能和使用壽命。為此,科研人員展開(kāi)了一系列的改性研究,發(fā)現(xiàn)通過(guò)對(duì)基底表面預(yù)處
2、理、異質(zhì)元素?fù)诫s、構(gòu)建過(guò)渡層,退火處理等都能有效改善薄膜的性能。
本文主要研究利用Cr元素?fù)诫s、Cr過(guò)渡層設(shè)計(jì)以及兩者的協(xié)同作用對(duì)DLC薄膜結(jié)構(gòu)和性能的影響。通過(guò)采用雙激發(fā)源多?。}沖陰極弧和直流陰極?。┱舭l(fā)技術(shù),即利用脈沖陰極弧發(fā)生器蒸發(fā)石墨靶材制備DLC薄膜,利用磁分離直流陰極弧蒸發(fā)Cr靶材,可以實(shí)現(xiàn)Cr元素?fù)诫s或Cr過(guò)渡層沉積,在單晶硅和不銹鋼基底上制備了DLC薄膜、鉻過(guò)渡層/DLC薄膜(Cr/DLC),鉻摻雜DLC薄膜
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