USP法制備FTO薄膜及其霧度調(diào)控的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文以單丁基三氯化錫(簡稱MBTC)為前驅(qū)物,氟化銨為摻雜劑,采用超聲噴霧熱解法,在加熱的載玻片上制備摻氟氧化錫薄膜。通過改變基板溫度,噴涂時間,前驅(qū)物MBTC濃度,分析其對FTO薄膜微觀形態(tài)以及光電性能的影響,本實驗分別采用X射線衍射儀測定并分析薄膜晶化程度和擇優(yōu)生長等結(jié)構(gòu)特點;采用冷場發(fā)射掃描電鏡觀察薄膜表面形貌與斷面形貌,并分析薄膜顆粒形狀、尺寸以及膜厚的變化;采用原子力顯微鏡觀察FTO薄膜表面顆粒的起伏情況及三維形貌,分析薄膜表

2、面粗糙度的變化;采用紫外-可見光分光光度計及方阻儀分別測定薄膜在可見光范圍內(nèi)的平均透射比和方塊電阻,并引用品質(zhì)因數(shù)對薄膜的光電性能作出綜合評價;采用霧度儀測定薄膜在可見光范圍內(nèi)的霧度值,并進一步探究薄膜霧度隨晶體結(jié)構(gòu)與表面形貌的變化規(guī)律。
  實驗結(jié)果表明:不同實驗條件下制備的FTO薄膜均為多晶四方金紅石結(jié)構(gòu)SnO2。隨基板溫度的升高,薄膜的擇優(yōu)取向由(200)晶面轉(zhuǎn)變?yōu)椋?01)晶面。薄膜厚度、表面顆粒尺寸和表面粗糙度則隨著基板

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