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文檔簡介
1、光催化因其高效、環(huán)保、節(jié)能等多重優(yōu)勢,近幾十年來,一直是學術界研究的重點課題。而近年來興起的光催化有機合成大大拓寬了傳統(tǒng)有機合成在對映選擇性合成的研究范圍,進而在有機合成領域越來越發(fā)揮著重要作用。然而,通常所用的半導體光催化劑,因其光生電子空穴易于復合、納米粒子容易團聚等劣勢,嚴重限制了其高效利用,因此本文結合二維納米材料的性質特點,將二維納米材料石墨烯(graphene)以及寡層NbSe2(SOF-NbSe2)作為半導體基底用于光催化
2、有機合成領域,有效的解決了上述光催化劑的缺陷。
本文的主要研究結果如下:
(1)將電化學鋰插層的方法剝離所得的SOF-NbSe2與PbBiO2Br納米顆粒在乙腈溶液中通過機械混合的方式進行結合,從而獲得PbBiO2Br-SOF-NbSe2復合光催化劑。通過透射電鏡、掃描電鏡、X射線衍射、紫外可見分光光度計、電化學阻抗譜等表征手段,對復合光催化劑的形貌、吸光范圍以及電導性能等進行了考察。
復合光催化劑與手性咪
3、唑烷酮協(xié)同催化辛醛的對映選擇性α-烷基化反應的實驗結果表明:由SOF-NbSe2僅占0.5wt%的復合PbBiO2Br-SOF-NbSe2即可使得最終產物的收率較單獨PbBiO2Br催化提高約50%之多。該研究說明將SOF-NbSe2用作半導體光催化劑的基底可以有效的抑制光電子空穴對的復合,從而最終提高半導體PbBiO2Br在辛醛烷基化反應中的光催化性能。
(2)用水熱法將氧化石墨烯(GO)與PbBiO2Br還原復合而成PbB
4、iO2Br-還原氧化石墨烯(PbBiO2Br-rGO)納米復合光催化材料。通過透射電鏡、X射線衍射、紫外可見分光光度計等一系列表征手段對復合催化劑的形貌、晶型以及吸光范圍等進行了研究。
該復合光催化劑用于Nitro-Manich的反應表明,當rGO與PbBiO2Br的質量比為2%時,復合光催化劑的催化性能最佳,可將最終產物的收率提高約50%之多。該研究說明rGO為基的PbBiO2Br,其在Nitro-Manich反應中的光催化
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