酚類內(nèi)分泌干擾物的磁性熒光分子印跡聚合物制備及性能.pdf

1、分子印跡是一種制備具有預定性分子識別性質(zhì)聚合物的新的有效方法。分子印跡聚合物展現(xiàn)出高的選擇性、親和性、穩(wěn)定性等特點。本研究基于量子點，磁性Fe3O4和氧化石墨烯，通過表面分子印跡的方法，制備出四種多功能性分子印跡聚合物。制備的這些聚合物擁有磁特性、熒光性能、高的吸附容量和高的選擇性。通過透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡、X射線衍射儀、熱重分析儀、振動樣品磁強計、熒光光譜儀、熒光顯微鏡等對制備的多功能分子印跡聚合物進行了分析與表征，并研究了

2、它們對內(nèi)分泌干擾物的吸附選擇性。
　　通過優(yōu)化合成條件合成強熒光性能的CdTe量子點?；贑dTe量子點和磁性Fe3O4，制備了具有磁性和熒光性能的分子印跡聚合物。探討了反應物質(zhì)量比對此印跡聚合物的性能影響。此功能性聚合物展示出規(guī)整的球型核殼結(jié)構(gòu)，最大磁飽和強度4.79emu·g-1，可應用于磁性分離，為復雜基質(zhì)中模板分子的分離提供了有效的方式。該聚合物微球具有強的熒光性能可以通過熒光信號的改變對模板分子具有選擇性識別能力。

3、>　　以磁性氧化石墨烯作為復合物載體，制備磁性氧化石墨烯基分子印跡聚合物。探討了載體的量對此聚合物性能的影響。該聚合物具有強磁性，吸附實驗表明，Langmuir吸附等溫線和準二級動力學方程可以較好的擬合吸附過程。該聚合物對模板分子表現(xiàn)出優(yōu)越的吸附性能（2183μmol·g-1,298K）。
　　以CdTe量子點和氧化石墨烯為基質(zhì)，對印跡條件進行了優(yōu)化，制備熒光氧化石墨烯基分子印跡聚合物。以氧化石墨烯作為基質(zhì)，制備的聚合物展現(xiàn)出快速

4、的響應速率和高的吸附容量。聚合物成功的應用于實際水環(huán)境中對模板分子直接的、靈敏的、選擇性的熒光檢測，重復使用5次，依然具有較強的熒光性能。
　　通過優(yōu)化合成條件合成強熒光性能和穩(wěn)定性的CdTe/CdS量子點，以CdTe/CdS量子點，磁性Fe3O4和氧化石墨烯作為基質(zhì)材料，制備出了具有磁性和熒光性能的氧化石墨烯基分子印跡聚合物。研究了印跡條件對印跡聚合物性能的影響，并對熒光淬滅機理進行了分析。氧化石墨烯增加了聚合物的響應速率和吸附