單晶爐冷卻系統(tǒng)的設(shè)計與實現(xiàn).pdf

1、單晶硅的生長方式多種多樣,目前主流的是區(qū)熔法和直拉法兩種,但不管是哪一種生長方法,其對整個單晶硅生長過程的溫度要求都是相當嚴苛的。作為單晶硅生長最重要的單晶爐,爐內(nèi)工作溫度一般在1400℃,而單晶爐的爐體材料一般是不銹鋼材料,其耐受溫度在300℃以下,如果爐體長期在大于300℃的高溫環(huán)境下工作,會由于不銹鋼材料的氧化導致爐體表面發(fā)黃并生銹腐蝕,大大縮短爐體壽命,影響企業(yè)經(jīng)濟效益。
　　為了防止爐體工作溫度過高,必須對爐體進行冷卻。

2、本論文根據(jù)某企業(yè)單晶硅鑄錠爐對冷卻水的要求,結(jié)合生產(chǎn)中的各種實際情況,設(shè)計了一套基于西門子S7-200系列PLC為核心的爐體冷卻控制系統(tǒng)對爐體進行循環(huán)冷卻。整個系統(tǒng)的核心內(nèi)容為工藝水冷卻水的恒壓變頻控制,除此之外,給工藝冷卻水降溫的冷卻塔冷卻水、冰機冷凍水的控制以及給廠房降溫的空調(diào)冷凍水的控制,備用水恒壓變頻控制以及三級供水系統(tǒng)是本文的重要研究內(nèi)容。
　　通過實際生產(chǎn)運行證實,不管投入運行的單晶爐數(shù)量如何變化,該冷卻系統(tǒng)對爐體的冷