2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
已閱讀1頁,還剩121頁未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

1、纖鋅礦結(jié)構(gòu)氮化鋁(AlN)薄膜作為一種重要的Ⅲ族氮化物半導(dǎo)體材料,具有許多優(yōu)異的物理化學(xué)性能,使得 AlN薄膜成為碳化硅基和藍(lán)寶石基光電和聲電器件領(lǐng)域的理想材料,廣泛應(yīng)用在聲表面波器件、體聲波器件、場發(fā)射顯示和發(fā)光二極管領(lǐng)域。AlN薄膜的應(yīng)用一般要求其具有高 C軸取向或外延單晶結(jié)構(gòu)。然而,高 C軸取向和外延單晶 AlN薄膜需要采用金屬有機(jī)物氣相沉積、分子束外延、氫化物氣相外延等方法在高溫下制備,其缺點(diǎn)是沉積溫度高、毒性氣體的排放、制膜設(shè)

2、備昂貴,尤其是高溫沉積還會(huì)給襯底和薄膜帶來熱損傷,這嚴(yán)重限制了AlN薄膜在微電子學(xué)領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用。射頻磁控反應(yīng)濺射是沉積薄膜材料的一種重要方法,和其它制備技術(shù)相比,該技術(shù)具有簡單、低溫、價(jià)廉的優(yōu)點(diǎn)。因此,研究磁控濺射低溫制備高 C軸取向AlN薄膜具有非常重要的意義。本文首次采用射頻磁控反應(yīng)濺射法在6H-SiC單晶襯底上成功制備了高度 C軸取向及外延 AlN薄膜,研究了工藝參數(shù)對AlN薄膜的形貌、組成、晶體結(jié)構(gòu)以及光學(xué)性能的影響規(guī)律;采用

3、更加廉價(jià)但晶格失配度較大的藍(lán)寶石代替6H-SiC,同樣實(shí)現(xiàn)了高度 C軸取向的AlN薄膜生長,此外,探索了6H-SiC和藍(lán)寶石襯底上 AlN薄膜在300℃低溫和室溫條件下的生長。
  采用射頻磁控反應(yīng)濺射技術(shù)在6H-SiC和藍(lán)寶石基體上制備了高 C軸取向的AlN薄膜,采用掃描電子顯微鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)、X射線光電子能譜(XPS)和二維 X射線衍射(2D-XRD)等多種表征手段,研究了反應(yīng)氣壓、氮?dú)鉂舛?、射頻功率等工

4、藝參數(shù)對6H-SiC基體上的AlN薄膜的表面形貌、化學(xué)組成以及晶體結(jié)構(gòu)的影響規(guī)律,獲得了在6H-SiC單晶上生長高 C軸取向AlN薄膜的最佳生長條件。
  發(fā)現(xiàn)所制備的AlN薄膜 Al/N原子比可達(dá)1.09:1,薄膜中Al、N元素含量可達(dá)96%。薄膜晶粒尺寸隨反應(yīng)氣壓和氮?dú)鉂舛鹊脑黾佣鴾p小,射頻功率在250W表現(xiàn)出最優(yōu)值,襯底溫度增加到500℃后趨于穩(wěn)定。表面粗糙度隨反應(yīng)氣壓、氮?dú)鉂舛群蜕漕l功率的增加而降低。隨氮?dú)鉂舛群蜕漕l功率的

5、增加,薄膜中Al原子濃度下降而 N原子濃度升高, Al/N原子比減小。較低的反應(yīng)氣壓有利于 AlN薄膜的C軸取向生長,增加反應(yīng)氣壓,薄膜的C軸取向生長變?nèi)?,?dāng)氣壓增加到1.0Pa時(shí),生長的AlN薄膜呈非晶狀態(tài);隨著氮?dú)鉂舛扔?0%增加到60%,AlN薄膜由 AlN(10-10)擇優(yōu)取向生長逐漸過渡到高 C軸擇優(yōu)取向;射頻功率增加到250W時(shí),AlN薄膜的C軸取向達(dá)到最高,但射頻功率太大,會(huì)誘導(dǎo)其它晶面的生長。
  采用射頻磁控反應(yīng)

6、濺射技術(shù),以更加廉價(jià)的藍(lán)寶石取代昂貴的6H-SiC單晶作為薄膜生長基體,制備了高度 C軸取向的AlN薄膜,克服了藍(lán)寶石單晶襯底與AlN薄膜之間存在的較大晶格失配和熱失配所引起的生長問題,并研究了生長溫度對其形貌和結(jié)構(gòu)的作用。發(fā)現(xiàn)在藍(lán)寶石上生長高度 C軸取向的AlN薄膜的溫度窗口較窄,較高或較低的襯底溫度都不利于高 C軸取向的生長;另外,薄膜的表面粗糙度隨襯底溫度的升高而升高,較高的襯底溫度可以降低薄膜中的O原子含量。
  首次探索

7、了射頻磁控反應(yīng)濺射法在低溫和室溫條件下高 C軸取向AlN薄膜的生長。在6H-SiC襯底上室溫條件下制備了高C軸取向的AlN薄膜,并在襯底溫度為300℃時(shí)成功獲得了外延 AlN薄膜。室溫下在藍(lán)寶石襯底上生長的AlN薄膜以C軸取向生長為主,同時(shí)出現(xiàn)少量其它晶面的微弱生長。
  采用橢偏儀研究了制備的AlN薄膜的折射率和消光系數(shù),發(fā)現(xiàn)制備的AlN薄膜的折射率 n都在1.83-2.15之間,AlN薄膜的折射率與其 C軸取向性密切相關(guān),薄膜

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論