金屬間化合物Ni3Al薄膜的制備及性能研究.pdf

1、高溫結(jié)構(gòu)材料目前已成為航空、航天、能源工業(yè)中不可替代的關(guān)鍵性材料，其具有許多優(yōu)良性能，如高溫高強度，高溫耐蝕性，高的比強度和比剛度等。金屬間化合物正是中的重要一類。
　　金屬間化合物的性能介于金屬和陶瓷之間，其結(jié)構(gòu)不同于其金屬組元，是一種長程有序的超點陣結(jié)構(gòu)，因而具有許多特殊的物理化學(xué)性能和力學(xué)性能。與金屬材料相比，金屬間化合物密度小、高溫抗氧化性能好、熔點高、硬度高、抗蠕變和抗疲勞性能好，并具有許多特殊的物理化學(xué)性能和力學(xué)性能，

2、特別是一些金屬間化合物的強度在特定溫度范圍內(nèi)隨溫度升高而升高。金屬間化合物不僅具有陶瓷材料的強度高、抗氧化、耐高溫、熱膨脹系數(shù)低和密度小等優(yōu)良性能，也具有陶瓷材料不具有的良好的塑韌性能，在許多方面的應(yīng)用是一般金屬材料和高分子材料無法替代的。
　　Ni3Al金屬間化合物合金薄膜由于其良好獨特的力學(xué)、電學(xué)和磁學(xué)性能，耐高溫強度及抗氧化腐蝕性，可用于微電子器件的鈍化層，集成電路的導(dǎo)電柵層，巨磁電機存儲器的記錄磁頭，高溫航天器件的高溫包覆

3、層等，在抗氧化涂層、耐高溫材料、航空航天材料、微電子器件、大規(guī)模集成電路等諸多領(lǐng)域，具有廣闊的應(yīng)用前景。因此，研究金屬間化合物Ni3Al薄膜材料應(yīng)用于結(jié)構(gòu)材料領(lǐng)域顯得尤為必要。本論文試圖研究能起保護(hù)基體抗氧化和腐蝕性能的Ni3Al薄膜材料。
　　采用直流磁控共濺射法，在襯底溫度為450℃的SiO2基體上制備了厚度為500nm的Ni3Al薄膜，X射線衍射(XRD)和透射電子顯微鏡(TEM)等測試表明，薄膜為(111)取向的L12型晶