版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡介
1、鐵電薄膜同時具有鐵電性與壓電性,因在微電子器件設(shè)計中擁有巨大的應(yīng)用潛力而倍受關(guān)注。鐵電薄膜已被提出可用于構(gòu)造鐵電電容器、鐵電場效應(yīng)管和非揮發(fā)性鐵電存儲器等電子器件,而高質(zhì)量鐵電薄膜的獲得是其性能研究與應(yīng)用的前提。隨著薄膜制備方法的改進(jìn)以及設(shè)備的改良,可以通過多種手段獲得高質(zhì)量的鐵電薄膜。其中,脈沖激光沉積(PLD)方法被廣泛應(yīng)用于復(fù)雜氧化物薄膜的外延制備,因為采用該方法可以獲得與靶材組分相近的薄膜,且制備工藝參數(shù)簡單并可調(diào),容易制備出高
2、質(zhì)量的薄膜。復(fù)雜氧化物薄膜的制備多采用該方法,通過優(yōu)化沉積氧壓和溫度可以獲得接近化學(xué)計量比的薄膜,且薄膜厚度可通過沉積時間精確控制。通過摻雜鈮酸鉀鈉(KNN)陶瓷壓電性能得到了顯著提升,有望發(fā)展成為傳統(tǒng)PZT壓電材料的替代者之一。摻雜改性后的KNN陶瓷可能同時擁有高的壓電常數(shù),良好的熱穩(wěn)定性以及飽和的鐵電電滯回線。雖然持續(xù)有KNN薄膜性能研究的報道,但與KNN陶瓷研究相比,性能優(yōu)越的新KNN陶瓷,其相應(yīng)組分薄膜的研究比較缺乏且無法及時跟
3、進(jìn)。KNN薄膜制備過程中,由于A位堿金屬離子易揮發(fā)而偏離化學(xué)計量比導(dǎo)致次相的出現(xiàn),這是目前復(fù)雜組分KNN薄膜制備中最大的困難。
本文采用脈沖激光沉積方法,研究了沉積氧壓和沉底溫度對KNN薄膜的介電和鐵電性能的影響,并通過電導(dǎo)模型進(jìn)行線性擬合,分析其主要電導(dǎo)機(jī)制隨電場強(qiáng)度增強(qiáng)的轉(zhuǎn)換規(guī)律。制備得到不同電極構(gòu)型的KNN薄膜電容器,研究了其介電性能、鐵電性能以及疲勞行為。
本論文共分為四章。
第一章本章主要分為三個
4、部分:首先,簡單概括了壓電體和鐵電體的概念以及一些重要常數(shù)的物理意義;其次,介紹了(KxNa1-x)NbO3陶瓷的組分相圖以及摻雜改良的研究現(xiàn)狀,通過摻雜KNN陶瓷壓電和鐵電性能可以得到提升,且具備更好的熱穩(wěn)定性;最后,詳細(xì)介紹了KNN薄膜的制備方法以及性能研究的進(jìn)展。
第二章在(001)SrTiO3(STO)單晶襯底上,采用氧壓優(yōu)化后的La0.7Sr0.3MnO3(LSMO)薄膜作為底電極,在不同氧壓和沉積溫度制備得摻雜2w
5、t% MnO2的0.95(K0.49Na0.49Li0.02)(Nb0.8Ta0.2)O3-0.05 CaZrO3(KNN)薄膜。接著利用XRD和 SEM對KNN薄膜結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征,分析沉積氧壓和溫度對KNN薄膜結(jié)晶性的影響。然后測試并分析了沉積氧壓和溫度對KNN薄膜介電和鐵電性能的影響,最優(yōu)沉積參數(shù)為35 Pa和680℃。最后我們對薄膜的漏電流采用不同的電導(dǎo)機(jī)制進(jìn)行擬合,擬合結(jié)果表明薄膜隨著電場增強(qiáng),歐姆接觸、SCLC和PF依次成為主要
6、的電導(dǎo)機(jī)制。
第三章采用LSMO、La0.07Sr0.93SnO3(LSSO)和摻Nb的STO(Nb∶STO)為底電極,分別制備得高質(zhì)量的Pt/KNN/Nb∶STO、Pt/KNN/LSSO/STO、Pt/KNN/LSMO/STO和Pt/KNN/LSSO/LAST電容器。KNN電容器的介電和鐵電性質(zhì)研究表明,底電極為LSMO的電容器存在較大的介電損耗,但卻擁有更大的極化強(qiáng)度。其中,在Pt/KNN/LSMO/STO電容器中可獲得高
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 二氧化釩外延薄膜的制備及性能調(diào)控.pdf
- 立方AlN薄膜的激光分子束外延法制備及性能研究.pdf
- 外延pbzr,0.52ti,0.48o,3單晶薄膜的制備與性能研究
- AlN薄膜外延生長及光電性能研究.pdf
- Bi基鐵電外延薄膜的制備、微結(jié)構(gòu)和光伏性能研究.pdf
- KNN基無鉛壓電陶瓷的制備與性能研究.pdf
- β-Ga2O3薄膜及其復(fù)合薄膜的激光分子束外延法制備及性能研究.pdf
- BiFeO-,3-外延薄膜電容器與異質(zhì)結(jié)的制備和性能研究.pdf
- 新型復(fù)合稀土鐵石榴石薄膜的液相外延制備及其性能研究.pdf
- GaAs基GaSb異質(zhì)薄膜的分子束外延生長與性能研究.pdf
- L-MBE法制備GaN薄膜的外延生長研究.pdf
- AlN薄膜的制備與性能的研究.pdf
- 30850.過渡金屬摻雜mgxzn1xo單晶薄膜的外延型制備與性能研究
- 同質(zhì)外延氧化鎵薄膜和鋁銦氧薄膜的制備及性質(zhì)研究.pdf
- SmCo薄膜的制備與性能研究.pdf
- 低損耗高性能KNN基無鉛壓電陶瓷的制備與性能研究.pdf
- 氮化鋁薄膜的制備與性能研究.pdf
- VO2外延薄膜的制備和相變機(jī)理研究.pdf
- FeZrBCu磁性薄膜制備與性能研究.pdf
- 無氟-MOD法制備DBCO外延薄膜及工藝研究.pdf
評論
0/150
提交評論