200V大功率VDMOSFET設(shè)計研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、功率MOS場效應(yīng)晶體管是新一代電力電子開關(guān)器件，在微電子工藝基礎(chǔ)上實現(xiàn)電力設(shè)備高功率大電流的要求。VDMOS是80年代以來應(yīng)用范圍最廣的功率器件之一。VDMOS和雙極晶體管相比具有開關(guān)速度快、開關(guān)損耗小、頻率高等優(yōu)點。
    本文通過VDMOS的電參數(shù)來確定其結(jié)構(gòu)參數(shù)。通過擊穿電壓來確定外延層的厚度和電阻率，同時在外延層較薄時確定P-body的尺寸。通過閾值電壓來確定柵氧的厚度和P-bod

2、y的濃度。由飽和電流的表達式可知元胞的最大通態(tài)電流。導(dǎo)通電阻和擊穿電壓是兩個相互矛盾的參數(shù)，增加擊穿電壓和降低導(dǎo)通電阻對器件尺寸的要求是矛盾的。P島之間的距離不能太大，使相鄰P-body的耗盡層不能互相保護，也不能太小，將相鄰的P島導(dǎo)通。在綜合考慮了各種因素后確定器件的尺寸。根據(jù)計算的結(jié)果應(yīng)用MEDICI軟件進行器件仿真，修正器件的尺寸。用TSUPREM 4軟件進行仿真，主要優(yōu)化其工藝條件，必要時修改器件尺寸。根據(jù)實際工藝和TSUPRE

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