鈷鎳插層納米二硫化鉬復合材料的制備及催化氧化性能研究.pdf

1、二硫化鉬(MOS2)在催化、摩擦、光、電、磁等方面具有良好的性能,由于它具有層狀結(jié)構(gòu),因此其層間可以插入其它客體離子,制備出一些性能更加優(yōu)異的二硫化鉬插層復合材料。
　　 本學位論文首先利用自制納米MoS2為原料,通過剝層法制備出單層納米二硫化鉬懸浮液,再分別將Co2+、Ni2+和Co2+-Ni2+插入MoS2層間,進行插層反應,分別制備出單金屬插層化合物與雙金屬共插層化合物。XRD表征表明,客體離子插入MoS2層間后,復合材料

2、出現(xiàn)新的插層特征峰(001),粒徑產(chǎn)生變化,層間距變小。分析得知,單層MoS2懸浮液不具有層狀特征峰,Co2+和Ni2+插入后MoS2層狀特征峰顯現(xiàn),發(fā)現(xiàn)Co2+和Ni2+促使單層MoS2沿著c軸規(guī)則的層堆積,但這種堆積是不完全的,具有一定的隨機性。同時,通過SEM表征,發(fā)現(xiàn)復合材料具有巢孔結(jié)構(gòu),這同樣是由于層堆積不完全產(chǎn)生的。
　　 其次,考察了插層化合物對S2-的催化氧化性能。結(jié)果表明:納米MoS2比微米MoS2具有更好的催

3、化性能,而插層化合物又比納米MoS2催化性能要好得多。這種性能的差異是和它們的結(jié)構(gòu)有關(guān),催化性能取決于它們的邊緣結(jié)構(gòu)。
　　 然后,對單金屬插層化合物與雙金屬共插層化合物催化氧化特性的影響因素進行了正交試驗,探討了它們的影響規(guī)律。結(jié)果表明:插層化合物的催化性能與其濃度、雙金屬離子比例、催化劑用量、反應時間等有著密切的關(guān)系。對于單金屬插層化合物,其濃度較大時,催化性能較好；對于雙金屬插層化合物,雙金屬離子濃度比接近時,催化效果越好