紫外LED光纖光刻系統(tǒng)關鍵技術研究.pdf

1、無掩膜光刻技術是光刻技術重要的發(fā)展方向之一，在制作圖案的過程中，不需要修改昂貴的光掩膜，只需修改計算機中的數(shù)據(jù)，特別適合單件小批、產(chǎn)品試制、實驗研究等，是最近幾年研究的熱點。本文將新興的紫外LED發(fā)光技術與光纖技術相結合，提出了基于紫外LED和光纖的無掩膜光刻系統(tǒng)，具有微型化、低成本、結構簡單等優(yōu)點，具有重要的研究意義。
　　 本文在分析各種無掩膜光刻技術的基礎上，提出紫外LED光纖光刻技術，分析了紫外LED作為光刻光源的優(yōu)勢，

2、進行了光源設計、光刻系統(tǒng)光學設計、掃描系統(tǒng)設計等，在光學設計時考慮了光源相干性，引入了部分相干光理論，所有光路均采用單透鏡實現(xiàn)，使結構達到了最簡化，最后進行了光刻實驗。
　　 本文的主要工作內容如下：
　　 ①根據(jù)大功率紫外LED的驅動、熱學特點和光刻系統(tǒng)的要求，設計了LED驅動電路和的亮度控制電路，設計加工了散熱裝置。
　　 ②根據(jù)大功率LED的光學特性，設計了準直光路，根據(jù)準直光束的性質，設計了光纖耦合光路。