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文檔簡介
1、微電子機(jī)械系統(tǒng)是21世紀(jì)科技與產(chǎn)業(yè)的熱點(diǎn)之一，而微細(xì)加工技術(shù)又是MEMS發(fā)展的重要基礎(chǔ)。在MEMS領(lǐng)域中，微結(jié)構(gòu)需要具有較大深寬比的，LIGA技術(shù)是制備微結(jié)構(gòu)的重要微細(xì)加工技術(shù)，因此成為MEMS微細(xì)加工中十分重要的技術(shù)。但LIGA技術(shù)需要昂貴的同步輻射X射線源，因此限制了其廣泛的應(yīng)用。
本文采用近紫外光作為曝光光源的UV-LIGA技術(shù)代替LIGA技術(shù)制備微結(jié)構(gòu)。負(fù)性光刻膠SU-8具有良好的光敏性，膠結(jié)構(gòu)圖形的側(cè)墻較陡直，能
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