SnO2：F薄膜第一性原理計算及Low-E玻璃的性能研究.pdf

1、低輻射鍍膜玻璃（Low-E玻璃）作為一種性能優(yōu)越的節(jié)能產(chǎn)品，在其發(fā)展歷程中經(jīng)過了不斷的技術(shù)完善與革新。本論文以發(fā)展Low-E玻璃的生產(chǎn)技術(shù)，產(chǎn)品性能及應(yīng)用方面為目標(biāo)，從材料設(shè)計角度出發(fā)，采用第一性原理的密度泛函理論對摻雜F的SnO2模型的晶胞體積，態(tài)密度，能帶結(jié)構(gòu)及光學(xué)特性進(jìn)行了研究；運(yùn)用XRD、XRF測定了薄膜的結(jié)構(gòu)、成分；運(yùn)用FT-IR、四探針電阻儀、表面光度儀和橢偏儀、紫外可見光分光光度計等儀器分別測量了樣品的中紅外透射率和反射率

2、、表面電阻、多層膜的厚度、可見光透過率和反射率等光學(xué)參數(shù)。
　　運(yùn)用計算軟件 Window5.0（計算標(biāo)準(zhǔn)為 NFRC100-2001），分析單片Low-E玻璃及Low-E玻璃與普通白玻璃組成中空玻璃的最佳使用方法，以期達(dá)到Low-E玻璃的最佳使用效果。
　　研究結(jié)果表明，在Low-E鍍膜玻璃表面建立SnO22×2×1超晶胞中摻雜兩個F原子其位置為相鄰對位的膜系結(jié)構(gòu)能使SnO2：F薄膜的光學(xué)特性達(dá)到最佳。耀華股份公司在線生產(chǎn)

3、的Low-E玻璃導(dǎo)電膜的主要成分為SnO2；光學(xué)過渡層的主要成分為 SiO2，薄膜的導(dǎo)電性完全是由頂層膜決定的；薄膜的結(jié)構(gòu)為四方金紅石結(jié)構(gòu)；隨著薄膜厚度的增加方塊電阻降低；實驗測得在線Low-E玻璃的光學(xué)性能與SnO2：F薄膜的第一性原理計算中得到的結(jié)果相匹配。根據(jù)Window5.0軟件計算結(jié)果可以得到：使用單片在線Low-E玻璃時，Low-E玻璃的膜面應(yīng)置于建筑物的內(nèi)側(cè)；如果使用由普通透明浮法玻璃與普通透明浮法玻璃在線鍍Low-E膜玻