銀系低輻射薄膜（Low-E膜）的研究.pdf

1、20世紀70年代以來，世界能源危機日漸顯露，人類愈加意識到節(jié)約能源的重要性，節(jié)能作為國家戰(zhàn)略問題已引起各國高度重視，各種探討節(jié)能方法和發(fā)明節(jié)能產品的科學工作也因此進入了一個嶄新的時期。而近幾年低輻射鍍膜的光學特性和結構更是逐漸成為新的研究熱點。 本文探討了銀系低輻射膜(Low-E膜)的光學性能與微觀結構間的內在聯(lián)系，提出了通過改善Low-E膜微觀結構進而提高膜光學性能的設想和途徑。采用直流和射頻磁控濺射相結合的方法制備了性能優(yōu)良

2、的低輻射薄膜，對工業(yè)上連續(xù)化生產有一定的借鑒意義。論文取得的成果和創(chuàng)新點主要有： 1．采用可見光區(qū)透射率T<,max>戕和高可見光透射率的波長覆蓋范圍W<,70>作為評判復合低輻射薄膜的標準，制備結構為TiO<,2>(25nm)/Ag(10nm)/Ti(2s)/TiO<,2>(25nm)的復合低輻射膜，其T<,max>達到84％，W<,70>達到240nm。超過目前工業(yè)上的低輻射薄膜的標準。 2．利用AFM等手段觀察分析

3、納米Ag膜顯微結構，發(fā)現(xiàn)在銀膜上鍍覆1nm厚度的Ti膜能有效防止Ag膜被氧化，闡釋了2s濺射時間的阻擋層Ti膜保護納米Ag不被氧化的機理是Ti原子很容易就嵌入到Ag膜的空洞里，生成Ag-Ti合金，而且Ti比Ag活潑，更容易發(fā)生氧化反應，大大減少了Ag原子與氧原子的反應幾率，保護了Ag膜。 3．研究了熱退火對復合膜光學性能的影響，實驗表明高溫熱處理能夠有效的消除低輻射薄膜的表層介質層中的不飽和鍵(Si-O、Ti-O等)，增大低輻射