40kW中頻脈沖濺射電源設計.pdf

1、隨著生產(chǎn)生活和科學技術的不斷發(fā)展，用戶對鍍膜產(chǎn)品質(zhì)量的要求越來越高，需求量也越來越大。這就要求鍍膜設備具有較高的精度、良好的穩(wěn)定性，具有較高的鍍膜效率和鍍膜質(zhì)量。磁控濺射作為鍍膜技術的一個重要分支，也相應的得到了較快的發(fā)展，它分為直流磁控濺射，非平衡磁控濺射，射頻磁控濺射和脈沖磁控濺射等磁控濺射方式。脈沖磁控濺射因其濺射效率高，濺射工藝也高于其它磁控濺射方式而成為目前磁控濺射領域的發(fā)展熱門。在脈沖磁控濺射中，關鍵部分脈沖磁控濺射電源。目

2、前，脈沖磁控濺射電源向大功率、高頻化方向發(fā)展，據(jù)有關實驗研究和測試，脈沖磁控濺射電源的頻率通常在10kHz～200kHz之間為易。由于開關電源的高頻化使得開關電源的損耗增加，因此，人們開始使用零電壓或零電流的軟開關方式來減小開關損耗。 本研究利用移相軟開關技術設計實現(xiàn)了20kHz中頻脈沖磁控濺射電源。該電源采用移相控制方式，實現(xiàn)IGBT的零電壓軟開關，大大降低了電源的開關損耗，提高了電源的效率。同時，采用20kHz的開關頻率，使