亞波長(zhǎng)抗反射光柵的設(shè)計(jì)分析與制作.pdf

1、本論文主要對(duì)亞波長(zhǎng)抗反射光柵進(jìn)行了設(shè)計(jì)分析和制作工藝研究.本文利用嚴(yán)格耦合波理論和等效介質(zhì)理論分析了亞波長(zhǎng)抗反射光柵的結(jié)構(gòu)參數(shù)以及材料對(duì)光柵衍射特性的影響.通過(guò)分析發(fā)現(xiàn):1、在制作有一定特性的光柵時(shí),光柵參數(shù)的選擇原則為:周期的取值應(yīng)盡量的大,刻蝕深度的取值應(yīng)盡量的小,占空比的取值應(yīng)盡量靠近f=0.25;2、以參數(shù)的選擇原則結(jié)合制作的具體應(yīng)用要求來(lái)選擇光柵的參數(shù),則各個(gè)參數(shù)的優(yōu)化空間更大;3、當(dāng)光柵的周期T≤0.4λ時(shí),表面面形對(duì)反射率

2、沒(méi)有影響;4、運(yùn)用臨界周期點(diǎn)隨折射率的變化規(guī)律,可以避免由于選擇光柵周期過(guò)大而出現(xiàn)一級(jí)衍射,從而導(dǎo)致制作失敗.在制作工藝的研究方面,首先研究了離子束刻蝕技術(shù),通過(guò)對(duì)離子束刻蝕過(guò)程中各個(gè)參數(shù)對(duì)刻蝕元件的表面光潔度、輪廓保真度和線寬分辨的影響分析,結(jié)合掩膜的實(shí)際情況選擇出了合適的離子束入射角、離子能量、束流密度和刻蝕時(shí)間等參數(shù).依照這些參數(shù)刻蝕出了高質(zhì)量的特征尺寸為亞微米的環(huán)、光束整形元件和菲涅耳透鏡等元件.通過(guò)對(duì)刻蝕出的元件的檢測(cè)發(fā)現(xiàn),元