基于倏逝波干涉的亞波長光柵制作方法研究.pdf

1、倏逝波干涉光刻是利用近場倏逝波干涉制作出周期性亞波長光柵或者微結(jié)構(gòu)的一種無掩膜光刻技術(shù)。倏逝波憑借更高的空間頻率能夠突破自由空間中2/l干涉極限，因此倏逝波干涉光刻技術(shù)在超精密光刻領(lǐng)域中具有廣泛的應(yīng)用價(jià)值，在此背景下，本論文的主要工作就是圍繞倏逝波干涉研究亞波長光柵的制作方法。
　　本文首先闡述了倏逝波的實(shí)質(zhì)意義、特性以及產(chǎn)生方法，得出倏逝波是一種沿表面?zhèn)鞑サM(jìn)入透射介質(zhì)中會(huì)呈指數(shù)衰減的電磁模式，并且可以通過全內(nèi)反射機(jī)制激發(fā)產(chǎn)生；

2、其次論文利用三維矩陣法探討倏逝波干涉光刻技術(shù)，主要分析不同參數(shù)對(duì)雙束和多束倏逝波干涉情況的影響，同時(shí)介紹了基于液浸光刻干涉系統(tǒng)原理的雙束倏逝波干涉光刻系統(tǒng)，其研究表明提高入射介質(zhì)的折射率可以提高光刻曝光深度；對(duì)于入射波的不同偏振態(tài)，結(jié)果發(fā)現(xiàn)S波全內(nèi)反射產(chǎn)生的倏逝波仍為S偏振，而P波全反射產(chǎn)生的倏逝波為橢圓偏振。而且兩種偏振下的倏逝波干涉圖樣存在差異，若進(jìn)一步考慮到多束倏逝波干涉和相位調(diào)制，則干涉圖樣就更豐富復(fù)雜。由于全內(nèi)反射產(chǎn)生的倏逝波