三價(jià)鉻體系超聲一脈沖電沉積Cr-SiC復(fù)合鍍層的研究.pdf

1、采用超聲-脈沖電沉積技術(shù),以鍍層中SiC與Cr的含量和鍍層厚度為技術(shù)指標(biāo),對(duì)羧酸鹽-尿素體系三價(jià)鉻超聲-脈沖電沉積Cr/SiC復(fù)合鍍層工藝及電化學(xué)行為進(jìn)行了研究。
　　通過實(shí)驗(yàn)研究了不同鍍液組成和工藝條件對(duì)鍍層SiC含量、鍍層厚度、表面形貌的影響,確定了電沉積 Cr/SiC復(fù)合鍍層的最佳配方和工藝條件為: CrCl3·6H2O0.65 mol·L-1，Na3C6H5O70.4mol·L-1，Na2C2O40.32 mol·L-1，

2、CO(NH2)22.05 mol·L-1，CH3COONa0.35 mol·L-1，H3BO30.72 mol·L-1,NaCl2.0 mol·L-1,SiC l.3 mol·L-1,CTAB0.013 mol·L-1,電流密度5.4 A·dm-2,pH2.1,溫度36℃,沉積時(shí)間65min,脈沖工作比0.35,換向時(shí)間4ms,脈沖頻率22Hz時(shí),超聲頻率40kHz,超聲功率85W。在此最佳條件下,可以獲得厚度為13.83μm、SiC含

3、量為7.2％、硬度為1352.3Hv的Cr/SiC復(fù)合鍍層。
　　利用掃描電鏡(SEM)、X射線衍射(XRD)、能譜(EDS)等分析工具,對(duì) Cr/SiC復(fù)合鍍層的表面形貌、微觀結(jié)構(gòu)和組成進(jìn)行了研究,結(jié)果表明鍍層表面均勻平整、晶體微粒為細(xì)小球狀、無針孔和微裂紋;復(fù)合鍍層中均含有SiC分散相,復(fù)合鍍層的基質(zhì)金屬相為單金屬鉻。磨損和腐蝕實(shí)驗(yàn)表明,SiC含量越高的Cr/SiC復(fù)合鍍層,其耐磨性和耐蝕性越好。
　　利用現(xiàn)代電化學(xué)研究