射頻輝光放電等離子體光譜激發(fā)源及其增加效應(yīng)研究.pdf

1、射頻輝光放電光譜儀技術(shù)因其能直接分析固體樣品和深度逐層分析，并可直接分析導(dǎo)體和非導(dǎo)體樣品而日益受到重視。在世界范圍內(nèi)目前僅有三家公司有射頻輝光光譜儀商品儀器，我國(guó)尚未掌握該儀器生產(chǎn)技術(shù)。目前輝光放電光譜儀激發(fā)源存在濺射速率和激發(fā)效率都較低的問(wèn)題。射頻激發(fā)源和增強(qiáng)型激發(fā)源是輝光光譜儀研究工作的重點(diǎn)之一。
　　 本工作研究設(shè)計(jì)了三種GD激發(fā)源以及配套的RF/DC驅(qū)動(dòng)電源、放電室氣壓自動(dòng)控制系統(tǒng)、數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)等。在此基礎(chǔ)上，采用定制進(jìn)

2、口的多道分光光電(PMT)檢測(cè)系統(tǒng)搭建了“NCS-GD05型輝光放電光譜儀”實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。
　　 利用NCS-GD05型輝光光譜儀實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)平臺(tái)，考察了研制的Marcus型、2種Grimm型3種DC/RF激發(fā)源。介紹了3種激發(fā)源的設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)，在NCS-GD05型輝光光譜儀實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)平臺(tái)上進(jìn)行了3種激發(fā)源對(duì)導(dǎo)體和非導(dǎo)體樣品的濺射測(cè)試。提出了GD-ICP聯(lián)用和激光照射2種輝光增強(qiáng)型激發(fā)源，并對(duì)其性能進(jìn)行了測(cè)試考察。
　　 通過(guò)建立校準(zhǔn)

3、工作曲線實(shí)驗(yàn)，確定了Marcus型激發(fā)源在分析導(dǎo)體樣品上的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)難點(diǎn)?？疾炝藲鍤鈿鈮汉蜕漕l功率對(duì)Marcus型激發(fā)源濺射玻璃樣品的濺射率的影響。比較了兩種Grimm型激發(fā)源測(cè)試導(dǎo)體和非導(dǎo)體的工作曲線和精密度結(jié)果，優(yōu)化了提高測(cè)試指標(biāo)的激發(fā)源結(jié)構(gòu)。通過(guò)實(shí)驗(yàn)得出了非導(dǎo)體樣品的厚度對(duì)光譜信號(hào)的影響關(guān)系。Grimm-Ⅱ型激發(fā)源在DC/RF供電時(shí)對(duì)標(biāo)鋼樣品、玻璃樣品均獲得滿意的測(cè)試指標(biāo)，對(duì)彩涂鋼板表面做逐層檢測(cè)表明層間分辨率和重現(xiàn)性良好。