光罩管理系統(tǒng)的優(yōu)化來降低Haze的影響.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、光罩在晶圓廠的日常使用中會因為環(huán)境、光罩存儲方式等因素的影響產(chǎn)生霧狀缺陷(Haze),目前在全世界范圍內還是個無法避免和解決的課題。在晶圓廠內,Haze的產(chǎn)生是正常現(xiàn)象并不可怕,真正對生產(chǎn)上有影響的是Haze的光罩沒有被及時發(fā)現(xiàn),仍在使用造成產(chǎn)品因為光罩Haze的影響而造成良率的損失以及光罩因Haze去送修造成產(chǎn)品生產(chǎn)周期的延遲。所以目前國內外對于Haze的研究也大部分都集中在如何及時發(fā)現(xiàn)Haze,降低影響。本文研究目標是通過對現(xiàn)有光罩

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