基于異步軋制和磁場(chǎng)退火的取向硅鋼薄帶織構(gòu)控制研究.pdf

1、取向硅鋼薄帶是軍工和電子工業(yè)中的重要軟磁材料?？茖W(xué)技術(shù)的快速進(jìn)步，不斷推動(dòng)系統(tǒng)和器件向大容量、高頻化、小型化的方向發(fā)展，迫切需要飽和磁感更高、高頻損耗更低的取向硅鋼。研制具備強(qiáng)Goss織構(gòu)的取向硅鋼薄帶是實(shí)現(xiàn)上述性能要求的必經(jīng)之路。 本研究將異步軋制和磁場(chǎng)退火引入取向硅鋼超薄帶的制備過(guò)程，探尋強(qiáng)化取向硅鋼薄帶織構(gòu)調(diào)控力度和效果的新方法。為此，將0.3mm高磁感取向硅鋼以不同速比冷軋成小于100μm的取向硅鋼薄帶，然后進(jìn)行了普通和

2、磁場(chǎng)退火，借助X射線衍射和EBSD技術(shù)考察了異步軋制和磁場(chǎng)退火對(duì)取向硅鋼薄帶冷軋與再結(jié)晶組織及織構(gòu)的影響。 對(duì)冷軋織構(gòu)的分析表明，軋制方式及工藝參數(shù)不改變主要冷軋織構(gòu)的組分，均由{111}〈112〉以及{554}〈225〉、{332}〈113〉等組成。主要冷軋織構(gòu)組分的強(qiáng)度隨速比和壓下量而改變，而且速比和壓下量對(duì)中心層織構(gòu)的影響比亞表層顯著。 對(duì)再結(jié)晶組織的觀察發(fā)現(xiàn)，隨冷軋速比提高，再結(jié)晶晶粒尺寸增大，其中1.05和1.

3、0速比軋制的薄帶相近，而1.17和1.28速比軋制薄帶的晶粒尺寸顯著增大且易發(fā)生二次再結(jié)晶。 在各種軋制和退火工藝下，再結(jié)晶織構(gòu)均集中于n取向線。隨速比增大、退火溫度升高或退火時(shí)間延長(zhǎng)，主要再結(jié)晶織構(gòu)組分由Goss向{320}〈001〉、{210}〈001〉轉(zhuǎn)變，而Goss織構(gòu)強(qiáng)度也隨之降低。磁場(chǎng)退火延遲同步和小速比異步軋制薄帶的主要再結(jié)晶織構(gòu)組分的這種轉(zhuǎn)變，提高Goss織構(gòu)強(qiáng)度，但對(duì)較大速比軋制薄帶的Goss織構(gòu)無(wú)有利作用。