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文檔簡介
1、隨著多晶硅產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,妥善處理多晶硅產(chǎn)業(yè)中的副產(chǎn)物SiCl4,實(shí)現(xiàn)SiCl4無害化應(yīng)用產(chǎn)業(yè)化,成為多晶硅和太陽能產(chǎn)業(yè)急需解決的問題。為了探索處理多晶硅副產(chǎn)物SiCl4之路,本論文以SiCl4為原料,采用沉淀法制備出了理化性能優(yōu)越的二氧化硅粉末,并在此基礎(chǔ)上采用3-氨丙基三乙氧基硅烷(APTES)將 SiO2粒子表面修飾上氨基(-NH2)官能團(tuán),獲得表面功能化的SiO2粒子,利用凱氏定氮法對SiO2表面的氨基含量進(jìn)行了測定,確定了最佳修飾
2、條件下SiO2表面氨基(-NH2)的含量。最后初步考察了氨基功能化的SiO2在茶油脫酸過程中的應(yīng)用。本文主要開展了一下主要工作:
1、以SiCl4和Na2SiO3為原料,聚乙二醇(PEG)為表面活性劑,乙醇為分散劑,采用沉淀法制備出了二氧化硅粒子。通過單因素分析法,確定了反應(yīng)溫度、Na2SiO3濃度、PEG濃度、乙醇添加量、體系pH值等因素對SiO2粒子大小及形貌的影響,最終得到了最優(yōu)化條件:反應(yīng)溫度50℃、Na2SiO3濃度
3、為0.2mol/L、PEG濃度為3%、乙醇與水的體積比為0.2、體系最終pH值為8,樣品采用XRD、SEM、TEM和納米粒度儀進(jìn)行表征。
2、在制備出了二氧化硅的基礎(chǔ)上,采用3-氨丙基三乙氧基硅烷(APTES)將SiO2粒子表面修飾上氨基(-NH2)官能團(tuán),獲得表面功能化的SiO2粒子。采用單因素分析法對反應(yīng)時(shí)間、反應(yīng)溫度、反應(yīng)溶劑進(jìn)行分析,利用凱氏定氮法對 SiO2表面的氨基含量進(jìn)行了測定,根據(jù)氨基含量的測定結(jié)果,確定氨基的
4、最佳修飾條件和最大氨基濃度為0.594mmol/g。同時(shí)利用多種測試手段對表面功能化 SiO2的組成、結(jié)構(gòu)和粒徑分布進(jìn)行了表征。結(jié)果表明APTES較易結(jié)合到SiO2粒子上,較好的保留了粒子的原始結(jié)構(gòu)和形態(tài)。
3、在國內(nèi)首次將氨基功能化的SiO2應(yīng)用在茶油中,通過SiO2表面的氨基(-NH2)與茶油中游離脂肪酸的-COOH發(fā)生反應(yīng)形成酰胺鍵,最后通過離心將反應(yīng)后的SiO2從茶油中分離出來,以達(dá)到除去游離脂肪酸和降低茶油酸價(jià)的目的
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