片狀FeSiAlTi合金粉體的制備及電磁性能研究.pdf

1、進(jìn)入21世紀(jì)，科技進(jìn)入到了一個爆發(fā)式增長的時代，在帶來便利的同時也帶來了一些麻煩。隨著電子設(shè)備的普及，產(chǎn)生電磁波量的增加，電磁波對電子設(shè)備和生物產(chǎn)生的影響將不容忽視。目前針對此問題的解決方法主要是使用吸波材料來對電磁波進(jìn)行衰減。金屬合金粉體吸波材料有著比鐵氧體更高的飽和磁化強(qiáng)度，更寬的吸收頻段，吸波性能更好。FeSiAl合金粉體具有高磁導(dǎo)率，高飽和磁化強(qiáng)度，高電阻率，適用頻帶寬，吸波性能好的優(yōu)點(diǎn)。Ti可以增加材料的電阻率，減小渦流損耗，

2、進(jìn)而提高磁導(dǎo)率。本文通過機(jī)械合金化和熔煉加球磨兩種方法制備了FeSiAlTi合金粉體，研究了兩種不同的制備工藝和不同的Ti含量對粉體結(jié)構(gòu)和吸波性能的影響。在此基礎(chǔ)上，用MgO通過高能球磨和蒸鍍兩種方法包覆在FeSiAlTi表面，進(jìn)行了改性的研究。
　　機(jī)械合金化方法制備的FeSiAlTi片狀粉體，球磨50h，粉體粒度達(dá)到幾個μm，當(dāng)Ti含量為3.6wt％時，介電常數(shù)最低，反射損耗達(dá)到了最小值-30.95dB。用熔煉，球磨的方法制備

3、FeSiAlTi片狀合金粉體，球磨40h，隨著合金中Ti含量的增加，晶格常數(shù)先變大，后變小，最后和沒加Ti時一樣。根據(jù)原子大小分析，隨著Ti含量的增加，Ti在合金中將會取代Al的位置，當(dāng)Ti含量為1at%和1.5at%時，合金粉體中出現(xiàn)了一種新相Fe0.975Ti0.025。Ti含量為1at%的粉體各原子間有合適的間距和配比，介電常數(shù)和磁導(dǎo)率取得了很好的匹配關(guān)系，最小反射損耗達(dá)到了-21.13dB。
　　通過高能球磨在粉體表面包覆

4、MgO，由于MgO沒有很好包覆在粉體表面，粉體介電常數(shù)變大，吸波性能變差，反射損耗峰值移向低頻。在FeSiAlTi粉體表面氧化后，通過蒸鍍的方式，讓Mg粉和表面氧化物在高溫下發(fā)生反應(yīng)，在粉體表面包覆MgO膜，品質(zhì)因數(shù)Q隨著頻率的增加增加，μ'具有良好的頻率穩(wěn)定性，在Ti含量為1.5at%時，具有最大μ'。
　　用機(jī)械合金化方法制備FeSiAlTi合金粉體時，球磨50h，Ti的含量為3.6wt%時，粉體的阻抗匹配關(guān)系最好，吸波性能最