光學(xué)鍍膜設(shè)備中電子束技術(shù)的應(yīng)用與開發(fā)研究.pdf

1、本論文主要闡述光學(xué)鍍膜設(shè)備中電子束技術(shù)的應(yīng)用與開發(fā)研究。設(shè)計(jì)了磁偏轉(zhuǎn)電子槍掃描系統(tǒng)的電路，實(shí)現(xiàn)磁偏轉(zhuǎn)電子槍在X、Y兩個相互垂直方向偏轉(zhuǎn)掃描以控制其電子束束斑的形狀、大小和位置；在此基礎(chǔ)上，又進(jìn)行了磁偏轉(zhuǎn)電子槍的掃描系統(tǒng)改進(jìn)電路的設(shè)計(jì)，利用多波段變斜率三角波發(fā)生電路偏轉(zhuǎn)掃描實(shí)現(xiàn)控制電子束束斑在X、Y兩個相互垂直方向每一個點(diǎn)的掃描時(shí)間，從而可以控制束斑在每一個點(diǎn)的能量分布；并且提出再一步改進(jìn)的設(shè)想，利用磁場對電子束的偏轉(zhuǎn)，以取代光學(xué)鍍膜設(shè)備

2、中坩堝的機(jī)械轉(zhuǎn)動，提高鍍膜質(zhì)量；進(jìn)行了電子槍高壓電源的電路設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)6～10KV可調(diào)的高壓電源，高壓采樣反饋控制電路實(shí)現(xiàn)高壓的穩(wěn)定以及過高壓的控制，電子槍電子束工作束流的采樣反饋控制電路實(shí)現(xiàn)束流的穩(wěn)定以及過流的控制；完成電子槍滅弧電路的設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)消除光學(xué)鍍膜時(shí)真空室易見的拉弧短路現(xiàn)象，滅弧的反應(yīng)速度可達(dá)在60ms時(shí)間范圍內(nèi)；論文中還闡述了在在工程現(xiàn)場中電子槍槍頭裝置的安裝調(diào)試與故障問題的解決；電子槍高壓電源裝置的的安裝調(diào)試與故障問題的解